全自动研磨抛光系统产品介绍
全新的全自动紧凑型研磨和抛光系统SAPHIR X-Change将几米的标准研磨和抛光设备组合成一个单元，例如带有16个研磨和抛光介质的加油架，集成的加料单元和沉淀池。通过直观的触摸屏控制自动操作，中心力夹具易于手动卸载和固定，简化了样品制备的准备过程，磨削和抛光介质自动更换，所有参数可在此过程中直接调整。半遮盖的工作区域配有大面板和光栅，可提供高水平的安全性。
产品特色
•中心力磨抛系统
•铝制外壳，粉末涂层，磨抛头速度可调
•定量磨削
•触摸屏电子控制
•磨盘自动更换
•带有水、气和乙醇的清洁站
•超声波清洗器
•6位自动加液系统（4位金刚石悬浮液，1位润滑液，1位终抛液）
•磨盘储存抽屉
•45升沉淀槽
•光阻功能确保安全
全自动研磨抛光系统技术参数
工作盘尺寸： | Ø 250 mm |
运行功率： | 1.1 kW S3/40% |
磨抛夹具尺寸： | 160 mm |
磨抛头运行功率： | 0.17 kW S1 |
磨抛头转速： | 30 - 150 rpm |
底盘转速： | 50 - 600 rpm |
定量磨削 (显示精度)： | 0.01 mm |
水压： | 1x fresh water R½" max. 6 bar |
出水口： | 1x waste water DN50 |
压缩空气： | 6 bar. coupling connector NG8 |
宽 x 高 x 深： | 1320 x 1500 x 800 mm |
全自动研磨抛光系统标准配置
全自动研磨抛光系统；研磨盘；抛光盘；砂纸
全自动研磨抛光系统可选配件
研磨盘；抛光盘；砂纸；抛光液；绒布
