超高纯度:能生产出电阻率高达 18MΩ・cm 以上,总有机碳(TOC)含量极低,颗粒计数极少的超纯水,满足光刻工艺对水质的**要求,确保光刻胶的分辨率和精度。
稳定运行:采用高品质的膜组件、泵、阀门等关键部件,经过严格的设计和测试,可长时间连续稳定供应高质量超纯水,保证光刻工艺的连续性。
自动化程度高:配备**的 PLC 控制系统、传感器网络和远程监控系统,可实时监测和控制水质、压力、流量、温度等参数,实现自动运行、调节、保护和故障报警,减少人工操作和维护成本。
灵活定制:可根据不同的光刻工艺需求、生产规模和水质要求,进行模块化设计和定制化配置,方便设备的安装、调试和扩展。
节能环保:采用节能型泵和优化的工艺流程,降低能耗;同时,一些设备采用的 EDI 技术减少了酸碱废水的排放,符合环保要求。