激光气体分析仪LG-117堀场HORIBA

激光气体分析仪LG-117堀场HORIBA

激光气体分析仪LG-117堀场HORIBA

激光气体分析仪LG-117，四极质谱仪MPA8-7-2/65C，MPA8-5-2/100C，MPA8-1-4/300C，SMPA8-1-2/100CR，SMPA8-7-2/65C，SMPA8-5-2/100C，SMPA8-1-4/300C，SMPA8-1-2/100KR，SMPA8-7-2/65K，SMPA8-5-7/100K，SMPA8-1-4/300K，在线气体监测仪IR-427，IR-437，IR-422，IR-432，气体浓度监测器IR-312M，IR-314M，IR-315M，IR-322M，IR-324M，IR-322MB，IR-324MB

产品介绍

激光气体分析仪LG-117

LG-100系列可以实时测量半导体制造中的蚀刻过程所生成的SiF4（四氟化硅）分压※1的变化。通过这个变化量，可以判断蚀刻是否达到规定的深度（端点※2）。这有助于减少过度蚀刻和不足蚀刻的风险，提高半导体制造过程的生产力和良率。

本产品搭载了2021年开发的HORIBA独自的红外气体分析技术「IRLAM(アーラム)TM」，实现了对ppb级别的微量气体进行高灵敏度且高速（0.1秒）的测量。这将有助于判断向逻辑半导体量产所需的GAA晶体管结构和高aspectratio的接触孔形成等先进技术的端点。

四极质谱仪

Micropole系统是世界的质谱仪。它由9个四极杆部件构成的结构传感器，用户可以轻松更换，只需输入传感器相关的参数即可进行校准。与普通的质谱仪相比，它在低真空（高压力）区域运行，不需要额外的设备。它非常适合于真空腔的条件管理和过程监控。

特征

业界最小尺寸

相比其他公司缩小20倍，传感器部分仅5厘米大小。非常适合装置组装。

独自构造传感器

16根电极棒构成9个四极部，尽管尺寸最小，但实现了高灵敏度。

低真空（高压）操作

如果测量范围在全压0.5Pa以内（2-65m/z传感器的情况），则不需要准备额外的差动排气系统。

用户可以进行传感器更换

无需拆卸机器，即可在现场轻松更换校准过的滤波器。

通信

可以从安装了随附软件的1台PC通过RS-485通信连接8台。此外，还配备了适合装置组合的模拟输入输出。

专用软件

为QL-SG02开发的用户友好型MicropoleScannerTM2软件可以控制QL-SG02，获取和可视化数据并进行分析。

在线气体监测仪IR-400系列

半导体制造的成膜工艺随着微细加工的进步，保持处理后的腔室处于清洁状态被认为是提高生产力的关键。IR-400Series是一种用于成膜工艺腔室清洁的终点检测监测器，能够实时监控排气成分（SiF4、CF4）。它优化了干法清洁的终点检测，减少了清洁气体的使用量和时间，降低了腔室损坏，从而延长了部件的使用寿命。

气体浓度监测器IR-300系列

用于气相生长的气态浓度监测。确保材料气体的稳定供应。

在LED制造过程和光器件制造过程中广泛使用的MOCVD（有机金属气相生长法）。这种MOCVD装置使用液体/固体材料，通常通过气泡方式将气体供应到腔室内。为了实现稳定的成膜过程，材料气体供应线路中实时气体浓度监测是重要的。气体浓度监测IR-300系列被引入MOCVD装置的材料气体供应线路中，实现了线路的高速气体浓度监测。支持材料气体的稳定供应