胶体磨
胶体磨 MK– Colloid Mill 用于对粒径要求较高、较精细的乳化和悬浮过程。 MK 模块利用三级定转子，无极调速，根据具体应用选定相应的转速来使整个研磨过程*化。三级定转子间有迂回的凹槽，锯齿一级比一级更加精细，以使生产中的物料精细度*。
化工应用:
气相二氧化硅、墨水和油漆、胶水、碳黑、*、农药和除草剂、树脂、色素和染色剂、上光蜡和上光剂等工艺
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胶体磨
胶体磨 MK– Colloid Mill 用于对粒径要求较高、较精细的乳化和悬浮过程。 MK 模块利用三级定转子，无极调速，根据具体应用选定相应的转速来使整个研磨过程*化。三级定转子间有迂回的凹槽，锯齿一级比一级更加精细，以使生产中的物料精细度*。
化工应用:
气相二氧化硅、墨水和油漆、胶水、碳黑、*、农药和除草剂、树脂、色素和染色剂、上光蜡和上光剂等工艺
| 产品名称 | 参考价 | 地区 | 公司名称 | 更新时间 | |
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