NK2000 化工颜料胶体磨

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色浆胶体磨采用了二级处理结构,*级采用了高剪切胶体磨的磨头模块,第二季采用了高剪切分散乳化机的分散乳化模块,第二级模块可根据客户对物料的处理要求开配定转子,定转子可配2P,2G,4M,6F,8SF,且定转子精密度都达到了水平。

化工颜料胶体磨是CIK（上海）公司2013研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。
                

 NKD2000系列研磨分散机的结构：

研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是：在粗精度,中等精度,细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数,狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

色浆 CIK胶体磨有很高的线速度,以及特殊上深下浅的三级磨头结构,一次处理即可满足细化要求。*级刀头形状,可以把相对大块的物料进行初步粉碎,以便能顺利通过更细的两级进行细微化研磨。 磨头齿列深度为从开始的 2.7mm 到末端的0.7mm,除了更精密之外,上深下浅的齿列结构,相较沟槽是直线,同级的沟槽深度一样的磨头,可以保证物 料从上往下一直在进行研磨。虽和其它产品一样磨头采用三级磨齿,但他们只能在一级磨头到另外一级磨头形成研磨效果。

色浆胶体磨为立式分体结构,精密的零部件配合运转平稳,运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封,并通冷媒对密封部分进行冷却,把泄露概率降到zui低,保证机器连续24小时不停机运行。

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