GALVANOTEST2000电解膜厚仪

GALVANOTEST 2000库仑电镀层测厚仪利用库仑电量分析原理，测量镀层、多层镀层。符合标准：DIN EN ISO 2177。

GALVANOTEST2000电镀层测厚仪，GALVANOTEST2000电解膜厚仪技术参数：
GALVANOTEST 可以测量
可以测量70种以上镀层/基体组合
可以测量平面、曲面上的镀层
可以测量小零件、导线、线状零件
预置10种金属的测量参数：Cr铬、Ni镍、Cu铜、黄铜、Zn锌、Ag银、Sn 锡、Pb铅、Cd镉、Au金（需提供样品确定）
预置9种金属的测量参数：Cr铬、Ni镍、Cu铜、黄铜、Zn锌、Ag银、Sn 锡、Pb铅、Cd镉。
用户可另设置1种金属的测量参数
 
测量机构：
带循环泵
带气泵
测量面积：
密封垫 8 mm2
密封垫 4 mm2
密封片 1 mm2
密封片 0.25 mm2（涂镀层面积几乎小得看不见）
电解杯 0.25-16 mm2 （可选件）
 
测量参数*化调整：
除镀速度0.3-40 μm/分钟可调
根据金属和测量表面可直接调整系数
可用厚度标准样板校准
可调整终点电压，以抗干扰，适应镀层/基体之间的合金