光学干涉式薄膜测厚仪具有非接触、多材料、安全性高等优点，在薄膜厚度测量领域中具有广泛的应用。目前，制约着光学干涉式薄膜测厚仪测量性能的主要因素是测量系统自身存在的各种误差，如系统参数误差、系统模型误差、温度漂移误差、数据处理误差等。
因此，为了保证测量结果的准确性，在利用光学干涉式薄膜测厚仪对薄膜厚度进行测量前，应对测量仪器进行校准。校准工作作为光学干涉式薄膜测厚仪研制中的核心技术之一，是薄膜厚度测量量值传递的重要环节。现阶段，国内从事光学干涉式薄膜测厚仪生产的单位较多，各家产品型号各异，由于没有合适的校准规范作为参考依据，之前对光学干涉式薄膜测厚仪的校准工作大多参照生产厂家对自家产品特性要求或是仪器使用说明书进行。
为了规范光学干涉式薄膜测厚仪的校准工作，使其校准有章可循，亟需编制《光学干涉式薄膜测厚仪校准规范》。
本规范依据JJF1071-2010《国家计量校准规范编写规则》、JJF1001-2010《通用计量术语及定义》和JJF1059.1-2012《测量不确定度评定与表示》规定的规则编写。
本规范参考了GB/T 14847-2010《重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法》、JJF 1306-2011《X射线荧光镀层测厚仪校准规范》的相关内容。
本规范引用的文件有GB/T 14847-2010 重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法；JJF 1306-2011 X射线荧光镀层测厚仪校准规范。
依据JJF1071-2010《国家计量校准规范编写规则》，本规范在架构上包括引言、范围、引用文件、概述、计量特性、校准条件、校准项目和校准方法、校准结果的表达、复校时间间隔和附录等内容。
本规范为发布。本校准规范适用于测量范围为(10-300)μm、分辨力为0.01μm光学干涉式薄膜测厚仪的校准。(详情请见附件)
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