【仪表网 行业标准】根据国家市场监督管理总局下达的国家计量技术规范制修订计划，全国几何量长度计量技术委员会已完成《晶圆级薄膜厚度标准片校准规范》《晶圆级台阶高度凹槽深度标准片校准规范》《干涉式三维表面形貌测量仪校准规范》《光学陀螺测角仪校准规范》和《散目标式视觉测量系统校准规范》5项计量技术规范的征求意见稿。为了使国家计量技术规范能广泛适用和更具可操作性，特向全国有关单位及专家公开征求意见和建议。
《晶圆级薄膜厚度标准片校准规范》
晶圆级薄膜厚度标准片指以硅晶圆片为基底，采用化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)以及原子层沉积(ALD)等方法生长出微纳米量级的单层二氧化硅薄膜，主要被测参数为薄膜厚度，晶圆级薄膜厚度标准片是集成电路产线质控的必要器件。
JJF 1001-2011《通用计量术语及定义》、JJF 1059.1-2012《测量不确定度评定与表示》、JJF1071-2010《国家计量校准规范编写规则》、JJF 1094-2002《测量仪器特性评定》共同构成支撑本校准规范制定工作的基础性系列文件。
根据JJF1071-2010《国家计量校准规范编写规则》，本规范内容包括：引言；范围；引用文件；概述；计量特性；校准条件；校准项目和校准方法；校准结果表达；复校时间间隔以及附录几个部分。
本规范为首次制定。本规范适用于晶圆级薄膜厚度标准片的校准，薄膜材料为硅上二氧化硅，校准方法为激光椭偏仪，同时其他材料的晶圆级薄膜厚度标准片的校准也可以参照本规范。
《晶圆级台阶高度/凹槽深度标准片校准规范》
晶圆级台阶高度/凹槽深度标准片是用来校准微电子集成电路领域微纳表面形貌测量仪的标准器。其基底为硅晶片，通过对其表面氧化膜刻蚀得到台阶结构，可适应于接触或非接触式的各类表面形貌显微测量装置。特征结构位于标准片的中心，可通过辅助图形帮助快速定位。
本规范依据JJF 1001-2011《通用计量术语及定义》、JJF 1059.1-2012《测量不确定度评定与表示》、JJF1071-2010《国家计量校准规范编写规则》、JJF 1094-2002《测量仪器特性评定》编制。制定本规范的目的主要是解决我国微电子集成电路领域纳米尺度晶圆标准片上台阶高度/凹槽深度校准问题。
根据JJF1071-2010《国家计量校准规范编写规则》，本规范内容包括：引言；范围；引用文件；概述；计量特性；校准条件；校准项目和校准方法；校准结果表达；复校时间间隔以及附录几个部分。
本规范为首次制定。本规范适用晶圆级标准片的校准。包括晶圆级台阶高度标准片、晶圆级凹槽深度标准片的首次校准、后续校准和使用中检查。
《干涉式三维表面形貌测量仪校准规范》
干涉式三维表面形貌测量仪基于双光束干涉的原理，经样品表面反射回的参考光与测量光形成干涉条纹，并经由CCD采集，经过算法重构获得表面形貌，在垂直方向上可以达到亚纳米级的分辨力。
JJF1001-2011《通用计量术语及定义》、JJF1071-2010 《国家计量校准规范编写规则》、JJF 1094-2002《测量仪器特性评定》和JJF 1059.1-2012《测量不确定度评定与表示》共同构成支撑本校准规范制定工作的基础性系列文件。
根据JJF1071-2010《国家计量校准规范编写规则》，本规范内容包括：引言；范围；引用文件；概述；计量特性；校准条件；校准项目和校准方法；校准结果表达；复校时间间隔以及附录几个部分。
本规范为首次制定。本规范适用于干涉式三维表面形貌测量仪的校准，其它基于干涉原理的显微镜校准也可参照本规范。
《光学陀螺测角仪校准规范》
光学陀螺测角仪是基于萨格纳克效应(Sagnac Effect)发展出来的一种角度测量仪器，陀螺本体，光路内藏于壳内，卡盘下表面与陀螺敏感面平行，通过卡盘安装在载体工作面上；数据采集模块，通过无线或有线通讯与陀螺本体互联，可在外部触发或内部触发下实时采集角度测量结果，测量结果可传输至上位机显示或分析。
JJFXXX-XXX《光学陀螺测角仪校准规范》是针对光学陀螺测角仪校准的计量技术法规。光学陀螺测角仪是基于萨格纳克效应(Sagnac Effect)发展出来角度测量仪器。其测量结果是在惯性空间内的陀螺敏感面上，陀螺载体相对启动时刻空间指向的角度变化量。基于此测量原理，光学陀螺测角仪具有独特的误差作用机理，并相应地表现出特有的计量性能，因此有必要为其制定专门的校准规范，保证该类计量仪器使用规范、量值传递有效、测量结果可靠。同时需要声明的是：本规范制定内容只涉及光学陀螺测角仪在特定温度范围内角位置测量结果的校准方法，未涉及光学陀螺测角仪在不同温度条件下的校准方法，也不涉及光学陀螺测角仪角速度测量结果的校准方法。
本规范依据JJF 1071-2010《国家计量校准规范编写规则》、JJF 1001-2011《通用计量术语及定义》和JJF 1059.1-2012《测量不确定度评定与表示》进行编写。
根据JJF1071-2010《国家计量校准规范编写规则》，本规范内容包括：引言；范围；引用文件；术语；概述；计量特性；校准条件；校准项目和校准方法；校准结果表达；复校时间间隔以及附录几个部分。
本校准规范为首次发布。本规范适用于环形激光陀螺测角仪和光纤陀螺测角仪的角位置相关计量性能的校准。
《散目标式视觉测量仪校准规范》
散目标式视觉测量仪是以散斑为目标点，利用数字相机获取散斑的数字图像，经数字图像相关法运算，获得被测对象表面坐标的测量仪器，常用于零件表面变形/应变的测量，也称为全场变形/应变测量系统，具有非接触测量、全场测量、动态测量等特性。
本规范依据JJF1001《通用计量术语及定义》、JJF1071《国家计量校准规范编写规则》编制，测量不确定度的评定按照JJF1059.1《测量不确定度评定与表示》进行。
根据JJF1071-2010《国家计量校准规范编写规则》，本规范内容包括：引言；范围；引用文件；术语和定义；概述；计量特性；校准条件；校准项目和校准方法；校准结果表达；复校时间间隔以及附录几个部分。
本规范为首次发布。本规范适用于以散斑点为特征点、以数字图像相关法为基本原理的视觉测量仪的校准。
所有评论仅代表网友意见，与本站立场无关。