青岛佳鼎分析仪器有限公司
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阅读：150发布时间：2022-6-3
或许对于大部分朋友来说，对ASML的了解，只是知道ASML可以生产制造EUV光刻机，但是目前还无法向我们供货，不过在DUV光刻机上，供货还是没有问题的。
而对于DUV光刻机，可能大家了解的就不是很多了，实际上，DUV光刻机经过了三次比较大幅度的发展，最终没有办法才走向了发展EUV光刻机的道路。
对于ASML来说，当时研发EUV光刻机，也是捏了一把汗，因为如果研发失败，ASML很有可能就失去了在光刻机市场的地位。
虽然ASML的DUV光刻机可以出货，但是有分析师表示，ASML到底还是"留了一手“。
这里我们就有必要对DUV光刻机进行一些简单的介绍，大致上DUV光刻机分为三个类型，分别是KRF、ARF和ARFi三种，对应的波长分别是248纳米、193纳米和134纳米。
实际上ARF和ARFi属于同一光源，只不过ARFi加入了浸没系统，所以最终光刻机的等效波长，经过超净水的折射，变成了134纳米，因此这类光刻机也被称为湿法光刻机，ARF就被称之为干法光刻机。
目前我们的国产光刻机分辨率上已经做到了90纳米，可以生产65纳米的芯片，属于ARF光刻机。
但是近些年来我们看到，很多我们国内的厂商，依然在选择ASML的ARF光刻机，其中有很多厂商，只是购买光刻机来测试自家的产品，我们国产光刻机其实也可以满足要求。
而这里就是分析师所说的ASML到底还是"留了一手“。
虽然同样都是可以满足测试要求的ARF光刻机，可以支持的工艺水平也是差不多的，但是ASML在此之上，还推出了其他的升级服务。
具体来说，ASML开发了一种叫作"浸入式转换“的技术，其可以将客户购买的"干法“光刻机升级到"湿法"光刻机。
这样话，客户就不用购买新的“湿法"光刻机了，不得不说，这项转换技术很有针对性。
因为上面我们也提到了，我们国产光刻机已经完成“干法"技术，正在向着“湿法"光刻机推进，而ASML此举，无疑让我们国产“干法"DUV光刻机受到冷落。
不得不说，ASML利用EUV光刻机在市场发起“进攻"，但是在DUV光刻机市场也不忘“防守"，ASML到底“留了一手"。
不过这种情况不会持续太久了，因为根据之前的媒体报道，我国光刻机曝光系统供应链企业国望光学的工厂即将开建，届时将可以提供满足“湿法"DUV光刻机所需要的物镜系统。
这就意味着，我们国产DUV光刻机也将进入“湿法"阶段，ASML的最后屏障将只剩下EUV光刻机。
不得不说，ASML“留了一手"也不奇怪，这就像赛跑，如果要保证自己一直，除了自己要跑得快，还要想办法让对手跑得慢。
我们在追赶的过程中，难免要经历一些风雨，不可能是一帆风顺，但是风雨过后是彩虹，ASML的“小伎俩"是无法阻止我们的“大目标"的，我们拭目以待。
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