详细摘要： NIKONNSRG8A步进式光刻机用于半导体功率器件制造工艺中的光刻工序，即将图形投影到涂有光刻胶的硅片上的装置，由此使得所需图形区域的光刻胶曝光
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青岛佳鼎分析仪器有限公司
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详细摘要： 爱发科ICP刻蚀设备刻蚀系统NE-550EXz现货，电极的刻蚀效果好，能够进行正确稳定的刻蚀重点效果检测，具有维护便利、性能稳定、产能优良等特点
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详细摘要： centrotherm卧式热反应系统HORICOO200是大量现场验证及具有多功能的卧式炉系统，基于客户需求可灵活选择大、中批量生产以及研发类型机台
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详细摘要： ULVACCS-200系列磁控溅射镀膜设备是一款追求低成本和用户友好操作的磁控溅射设备，通过增加配有机械手d装载固定腔室（Loadlockchamber）使在上...
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详细摘要： 随着半导体芯片工艺技术的发展，工艺技术节点进入28纳米以及14nm等更*等级，随着工艺流程的延长以及越趋复杂，每个晶片在整个制造过程中需要超过200道清洗步骤，...
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详细摘要： Load-lock式PlasmaCVD设备CC-200/400是小型的使用便利的可对应从研究开发到量产的设备
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详细摘要： AL-1通过交替向反应室提供有机金属原料和氧化剂，仅利用表面反应沉积薄膜，实现了高膜厚控制和良好的步骤覆盖率
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详细摘要： PD-3800L是一种能够沉积硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）的锁载等离子体增强化学气相沉积（PECVD）系统
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详细摘要： 德国suss公司的ma8光刻机，兼容4、6、8英寸wafer，Led光源，3个独立波长(g、h、i)，可自定义
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详细摘要： 200kV相差校正TEM/STEM，平衡了空间分辨率和倾斜、分析性能通过单极片实现0.078nm的STEM空间分辨率和高样品倾斜度、高立体角EDX
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详细摘要： 专用扫描透射显微镜HD-2700，配备了与德国CEOSGmbH公司(总经理MaxHaider先生)共同开发的球差校正仪，显著提高了扫描透射电子显微镜的性能，更适...
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详细摘要： 现有机型SU8240,SU8230,SU8220及SU8010重新整合，衍生而成Regulus8240、Regulus8230、Regulus8220、Regu...
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详细摘要： 日本东京电子公司生产的TEL牌涂胶显影机CLEANTRACKACT8/12，是有着良好性能和可靠性的半导体微电子生产设备,是可对应200/300mm硅片生产的涂...
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详细摘要： 尼康Nikoni-line（365nm波长）光刻机NSR-4425i，解析度≤700nm，视场大小44*44mm，对准精度≤100nm
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详细摘要： 特征尺寸测量用扫描电子显微镜CD-SEMS-8840，适用于6英寸和8英寸晶圆的线宽测试
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详细摘要： 日立CD-SEM二手现货扫描电镜S-9220适用于8英寸晶圆的监测，CD检测范围0.1~2.0μm，吞吐量45wph，放大倍数1000~300,000
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详细摘要： CIC-D160离子色谱仪是一款电路技术升级的高稳定性离子色谱仪，配置双极电导检测器，极大的提高了仪器的检测性能和稳定性，带来很好的用户体验
产品型号：所在地：更新时间：2022-04-18 在线留言您感兴趣的产品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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