| 技术参数 |
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| 结构＆特点 | ● 真空腔体为直径6英寸的石英腔体，便于清洁和放入样品 ● 安装有一个2英寸的样品台，并且样品台可以旋转，使所制薄膜更加均匀 ● 采用钨丝篮作为发热源，温度可达到1500℃，并且配用专用氧化铝舟，可装入样品 ● 精确控温：可设置30段升降温程序，控温精度为+/-1℃ ● 气体流量端口和阀门内置用于腔室净化和CVD可能性 |
基本参数 | ● 温度：1500℃ （1200℃以上＜1h） ● 建议升温速率：≤20℃/ min （需根据工艺调整） ● 热偶：B型或者S型热偶 ● 电源：AC220V，50Hz 6KW |
温控及加热源 | ● 采用钨丝篮作为发热源，并且配有专用的氧化铝坩埚，热电偶安装在坩埚底部，以便于温度测量和控制（如图1） ● 采用S型热电偶（工作温度为200℃-1500℃） ● 可选B型热电偶（工作温度为1200℃-1700℃） ● 安装有一个数显的温度控制器：可设置30段升降温程序，控温精度为+/- 1ºC（如图2） ● 温度控制器的时间设置以秒为单位，建议将升温/降温速率限制在1200ºC以下0.3ºC/s（20ºC/ min），在1200 - 1500ºC限制到0.15ºC/s（10ºC/min） ● 仪器中配有钨丝篮及氧化铝坩埚（如图4图5） 图1 图2 图3 图4 图5 |
样品台 | ● 仪器顶部安装有样品台，直径为Φ50mm，并设置有挡板，方便控制蒸发镀膜时间 ● 样品台可旋转，增加镀膜均匀性 ● 样品台和蒸发源之间的距离可以调节，调节范围为：40mm-85mm |
进气口 | ● 进气接口为1/4NPS，可向真空腔体中通入惰性气体，对腔体进行清洗，也可通入反应气体，进行反应蒸发镀膜 ● 进气口安装有一针阀，用于调节进气流量 |
可选 | ● 程序控温型四坩埚蒸发镀膜仪-GSL-1700X-EV4（图一） ● 仪器中配有钨丝篮及氧化铝坩埚，并用户可额外选购钨丝篮及氧化铝坩埚（图二图三） 图1 图2 图3 |
| 真空计（可选） | ● 可选购一数显防腐真空计，测量范围为：3.8x10-5-1125Torr |
| 膜厚检测仪（可选） | ● 可在本公司选购精密的石英振动薄膜测厚仪安装在溅射仪上，可实时监测薄膜的厚度，分辨率为0.10 Å （图一） ● LED显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据（图二） ● 同时可选购反射光谱薄膜测厚仪--TFMS-LD（图三） 图1 图2 图3 |
| 真空系统（选配） | ● 设备上有一KF25接口用于连接真空泵 ● 采用涡旋分子泵真空可达1.0E-5Torr，极限真空度可达4.0E-6Torr ● 双极旋片真空泵或干泵，可使仪器真空腔体的真空度达到10-2Torr ● 真空度达到10-2torr时，可蒸发一些贵金属，参考材料金和铂，也可蒸发一些有机材料，可选购数显防腐真空计PCG-554(测量范围3.8x10-5 to 1125 Torr.) ● 高真空度可达1.0E-5Torr（采用涡旋分子泵），此时可蒸发对氧敏感的材料，参考材料Al. Mg, Li，分子泵上带有复合真空计（可测量真空度为1.0E-7Torr） ● 可在本公司选购各种真空泵和真空计 ● 可选购一个冷真空阱，以避免真空泵造成污染 |
| 外形尺寸 | ● 490mm*330mm*560mm |
| 质量认证 | ● 所有电器元件（>24V）都通过UL/MET/CSA/CE认证，若客户出认证费用，本公司保证单台设备通过德国TUV认证或CAS认证。 |
| 质保期 | 一年保修，终身技术支持 特别提示：1.耗材部分如加热元件，石英管，样品坩埚等不包含在内 2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内 |
| 使用提示 | ● 为了获得高真空度，可采用以下做法 （1）使用前要检查密封圈和法兰上是否有异物或划痕，并用酒精擦洗 （2）抽真空时，用外部加热装置将腔体烘烤到200℃，氧化铝坩埚预加热到500℃，保持2小时 ● 此款蒸镀仪可以放入到手套箱里操作，用于蒸镀一些在常温下对氧气敏感的材料，比如金属Li等，可在本公司选购开启式手套箱VGB-6（点击下图查看详情） |
| 使用注意事项 | ● 使用温度高于1300℃时，保温时间不可大于1小时，否则会损坏密封圈 ● 当腔体的各阀门关闭时，请勿开启升温程序或手动调节电流进行加热 ● 当仪器正在蒸发材料时，不可打开泄气阀或关闭真空泵，只有当加热温度降至100℃时，才可放气或关闭真空泵 ● 蒸镀电流不宜大于40A ● 如误将控温仪表设为手动状态，程序将不能正常运行 ● 此设备仪表程序为秒，200℃之前升温速度不宜大于0.5℃/S 如果用户选购了STC-2型薄膜测厚仪，在选用取样片时请按：镀纯金属时用金取样片，镀合金时用银取样片 ● 钨丝篮必须在真空状态下（＜5Pa才能通电加热，否则会被氧化） |
