福芯科技(香港)有限公司
无掩膜光刻直写设备----MLA100
工作方式:无掩膜直写
配置高精度对准摄像机,套刻精度达1um以下
接受衬底尺寸:6”x6”
直写面积:125mm×125mm;
光刻胶曝光灰度:128阶
最小线宽:1um;
制版直写速度在50x50mm下于50分钟完成,在
100x100mm下于200分钟完成。
线宽均匀度<300nm
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