南京联创分析仪器制造有限公司
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箱式气氛炉适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理，材料在惰性气氛环境下进行烧结
箱式气氛炉
箱式气氛炉的用途：
适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理，材料在惰性气氛环境下进行烧结。
箱式气氛炉的特点：
1.LED大屏幕液晶显示，本机集成了真空泵，内循环水冷却系统，避免外接水源的繁锁，使设备的外表面温度更低，美观大方，操作简洁。
2.本款产品加热系统，混气系统，真空系统，内循环水冷却系统，监测系统，都可通过控制按钮一键操作。本机功能齐全，满足客户绝大部分要求。
3.专业的真空设计，优良的密封技术，保证了炉腔的气密性，真空度远远产品。
2.智能PID高精度控制，自整定功能,30段可编程控制，可设置30段升降温程序,实现了功率无损耗。
3.可选配485转换接口，实现与计算机相互连接。选配专用的电脑控制系统来完成与单台或多达200台电炉的远程控制、实时追踪、历史记录、输出报表等功能。
4.国内优良的加热元件，使用寿命长，高效节能。
5.升温速度快，升温速率可调: Max:30℃/Min
6.热污染少，采用国内优良的高纯氧化铝微晶体纤维保温材料，双层壳体间风扇制冷，可使炉体表面快速降温,外壳表面不烫手（约60℃）。
7.控温精密，具备多种温控器可供选择，进入保持状态后，温度波动小（控温精度±1℃温度均匀±5℃）。
8.可根据客户要求定制非标炉型。
箱式气氛炉的规格：
1、箱式气氛炉的zui高温度
1200度；1400度；1600度；1700度；
2、箱式气氛炉的炉膛容积
12L；36L；80L
详细技术参数请联系本公司索取
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