详细摘要： 吉致电子氧化硅抛光液分散性好、易摇散且不团聚。吉致电子氧化硅精抛液能有效缩短工时，磨抛后工件呈现镜面效果，无划伤、高平坦。
产品型号：所在地：无锡市更新时间：2024-02-21 在线留言
无锡吉致电子科技有限公司
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详细摘要： 吉致电子氧化硅抛光液分散性好、易摇散且不团聚。吉致电子氧化硅精抛液能有效缩短工时，磨抛后工件呈现镜面效果，无划伤、高平坦。
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产品型号：JEEZ抛光液所在地：无锡市更新时间：2024-02-21 在线留言
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详细摘要： 吉致电子氧化铝抛光液分散性好、乳液均一，提升抛光速率，降低微划伤的概率，提高抛光精度。适用于光学晶体、SiC表面抛光、超硬陶瓷和金属表面
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详细摘要： 吉致电子氧化铝抛光液分散性好、乳液均一，提升抛光速率，降低微划伤的概率，提高抛光精度。适用于光学晶体、SiC表面抛光、超硬陶瓷和金属表面
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详细摘要： 吉致电子氧化铝抛光液分散性好、乳液均一，提升抛光速率，降低微划伤的概率，提高抛光精度。适用于光学晶体、SiC表面抛光、超硬陶瓷和金属表面
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详细摘要： 吉致电子氧化铝抛光液分散性好、乳液均一，提升抛光速率，降低微划伤的概率，提高抛光精度。适用于光学晶体、SiC表面抛光、超硬陶瓷和金属表面。
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详细摘要： 吉致电子氧化铝抛光液分散性好、乳液均一，提升抛光速率，降低微划伤的概率，提高抛光精度。适用于光学晶体、SiC表面抛光、超硬陶瓷和金属表面
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详细摘要： 无锡吉致电子氧化层抛光液产品特点：纳米级SiO2磨料，粒径均一稳定，去除速率稳定，金属离子含量低，通过CMP工艺可有效去除表面氧化层，达到理想平坦度。吉致电子O...
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详细摘要： 无锡吉致电子碳化硅晶圆抛光液为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能，提供了...
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详细摘要： 无锡吉致电子25年研发生产——铝合金抛光液/铝合金slurry/铝合金悬浮液/铝合金抛光液抛光浆料Slurry/铝合金CMP抛光液/铝合金化学机械抛光液/铝合金...
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详细摘要： STI Slurry 适用于集成电路当中的铜互连工艺制程中铜的去除和平坦化。具有高的铜去除速率，碟型凹陷可调，低缺陷等特性。可应用于逻辑芯片以及3D NAND...
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详细摘要： 无锡吉致电子25年研发生产——Apple Logo镜面抛光液、手机Logo抛光液、铝合金抛光液、金属抛光液、CMP抛光液、平面研磨抛光液、手机logo化学机械抛...
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详细摘要： 产品简介：为半导体行业/铌酸锂晶体晶圆制备的化学机械抛光液/Slurry组合浆料，适用于LiNbO3领域的平坦化高效加工。设计满足铌酸锂（LiNbO3）晶圆提高...
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详细摘要： 为不锈钢模具及电子器件、不锈钢手机边框、手机金属外壳抛光、手机按键抛光、苹果Logo抛光等配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了不锈钢工件表面去除率和平坦化性能
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详细摘要： 为金属模具及电子器件、金属边框抛光、金属外壳抛光、手机按键抛光、苹果Logo抛光等配制的抛光液。适用于手机钛合金件研磨抛光液/铝合金件研磨抛光液/镁合金件研磨抛...
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