磁过滤直流真空阴极弧制备类金刚石膜的结构和力学性能研究
阅读：673发布时间：2009-5-31
摘要：采用磁过滤直流真空阴极弧沉积技术在硅片、不锈钢片基体上制备了类金刚石（DLC）膜.检测结果表明,膜中存在着微米级的大颗粒分布,膜厚为290nm,sp3键的含量为62.23%.所制备的薄膜具有典型的DLC膜Raman光谱特征,耐磨性能优良,膜与基体的结合性能良好.
1.引言
类金刚石（DLC）膜是一种含有大量sp（3）键的亚稳态非晶碳薄膜，碳原子间主要以sp（3）和sp（2）杂化键结合，sp（3）键的含量越多，薄膜的性能就越接近于金刚石。DLC膜有着和金刚石几乎一样的性质，如高硬度、耐磨损、高表面光洁度、高电阻率、优良的场发射性能，高透光率及化学惰性等，它的产品广泛应用在机械、电子、光学、声学和生物医学等各个领域。DLC膜的沉积温度低、表面平滑，具有比金刚石膜更高的性价比，在相当广泛的领域内可以代替金刚石膜。
DLC膜的主要制备方法有：离子束沉积法、磁控溅射沉积法、真空阴极弧沉积法、脉冲激光沉积法、等离子体增强化学气相沉积法等。
真空阴极弧沉积由于具有离化率高、沉积速率快、沉积离子能量高、膜基结合力好、沉积温度低、可通过在基体上加负偏压使沉积能量在大范围内可调节
2.实验方法
