小型直流式磁控溅射仪：KT—Z1650PVD是一款小型台式溅射功率可控磁控溅射仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压，电流反馈，样品台旋转，样品高度可调节及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率，可对大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜。

详细介绍

小型直流式磁控溅射仪KT-Z1650PVD离子溅射仪为一种有着紧凑结构的桌上型镀膜系统，对于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜尤为适用。试样干燥清洁为离子溅射镀膜的基本要求。在必要时，交换试样与阴极的位置利用火花放电从而对试样表面进行清洁，之后试样复原，再进行溅射镀膜。铁、镍、铜铅等为离子溅射仪常用的阴极材料，有时电刚金、铂、钯、铟和其他金属也能够作为阴极材料，氧气为离子溅射仪常用的反应气体。

*外形小巧方便移动

*触摸屏控制，工艺记忆储存方便镀相同样品

*自动化电动挡板，能自动打开关闭，保证镀样时间和保护样品

*石英＋不锈钢腔体，方便观察和清洗

小型直流式磁控溅射仪KT-Z1650PVD厂家供应技术参数；

控制方式	7寸人机界面手动自动模式切换控制
溅射电源	直流溅射电源
镀膜功能	0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序
功率	≤1000W
输出电压电流	电压≤1000V 电流≤1A
真空	机械泵 ≤5Pa（5分钟）分子泵≤5*10^-3Pa
溅射真空	≤30Pa
挡板类型	电控
真空腔室	石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm
样品台	可旋转φ62 （可安装φ50基底）
样品台转速	8转/分钟
样品溅射源调节距离	40-105mm
真空测量	皮拉尼真空计（已安装测量范围10E5Pa 1E-1Pa）
预留真空接口	KF25抽气口 KF16放气口 6mm卡套进气口