小型磁控蒸镀仪 KT—Z1650CVD是一款小型台式加热功率可控蒸发镀膜仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压，电流反馈，样品台旋转，样品高度调节及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率，可对大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。

详细介绍

小型磁控蒸镀仪 KT-Z1650CVD是一款小型台式加热功率可控蒸发镀膜仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。通过定时调节预热功率及蒸发功率，可对大部分金属进行均匀蒸发沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜和有机物薄膜

小型溅射仪

小型磁控蒸镀仪技术资料

控制方式	7寸人机界面手动自动模式切换控制
加热方式	数字式功率调整器
镀膜功能	0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序
功率	≤1200W
输出电压电流	电压≤12V 电流≤120A
真空度	机械泵 ≤5Pa（5分钟）分子泵≤10^-3Pa
挡板类型	电控
真空腔室	石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm
样品台	可旋转φ62 （可安装φ50基底）
样品台转速	8转/分钟
样品蒸发源调节距离	70-140mm
蒸发温度调节	≤1800℃
支持蒸发坩埚类型	钨丝蓝带坩埚钨丝蓝钨舟碳绳
预留真空接口	KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口
可选配扩展	机械真空泵（可抽真空 5分钟＜5Pa）数显真空计（测量范围大气压到0.1Pa）分子泵机组（可抽真空20分钟≤5x10-3Pa）