避免暴沸的核心在于对系统真空情况的控制，德国Heidolph致力于为用户提供完整的蒸馏解决方案，旋转蒸发仪搭配真空泵及真空控制系统的组合方案使用户轻松应对个性化、严苛的蒸馏任务，并满足理想的实验效果。
常见的真空控制系统主要有两种：内置真空控制系统及外置真空控制系统。
内置真空控制系统
Heidolph控制型旋转蒸发仪通过控制单元实现了集中控制所有工艺参数：真空、冷却温度、转速及加热锅温度。通过DAA动态精蒸馏模式，可在加热锅的加热阶段开始全自动蒸馏过程，系统真空随加热锅温度变化而变化，直至加热锅达到设定的温度，实现沸点识别。有效避免暴沸、泡沫的情况，高效蒸馏。
外置真空控制系统
目前基础款旋转蒸发仪不具备内置真空控制系统，一般建议选择搭配电子真空控制器进行旋蒸系统的真空控制。
Hei-VAC Control电子真空控制器，通过控制器内置的真空传感器、调节阀和排气阀，可轻松将真空系统升级为电子控制，使整个蒸馏过程更加高效，蒸馏条件更稳定温和，可有效避免样品暴沸及冲料的情况，是经济实惠的数字真空控制。可以搭配所有 Hei-VAP Core系列旋转蒸发仪使用。
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