迈浦特机械(四川)有限公司
半导体晶圆翘曲度检测用高低温一体机是专为 8 英寸、12 英寸硅基 / 化合物半导体晶圆研发的恶劣环境模拟设备,通过 -60℃~250℃超宽温域控制技术与多物理场耦合测试系统 ,精准模拟晶圆在光刻、刻蚀、封装等制程中的高温热膨胀(如 200℃外延生长)、及热冲击(温变速率≥20℃/min)等复杂工况。控温精度达 ±0.1℃。马(技术员企微):①⑨①⑧②②o④④⑦⑥
半导体晶圆翘曲度检测用高低温一体机是专为 8 英寸、12 英寸硅基 / 化合物半导体晶圆研发的恶劣环境模拟设备,通过 -60℃~250℃超宽温域控制技术与多物理场耦合测试系统 ,精准模拟晶圆在光刻、刻蚀、封装等制程中的高温热膨胀(如 200℃外延生长)、及热冲击(温变速率≥20℃/min)等复杂工况。控温精度达 ±0.1℃,某 12 英寸晶圆厂应用后,晶圆翘曲度检测误差率降低至 1.5% 以下,缺陷预警准确率提升 40%。
核心需求:优化光刻、刻蚀工艺,验证封装材料的热可靠性。
设备价值:
工艺筛选:某晶圆厂通过 - 80℃循环测试,筛选出热膨胀系数降低 18% 的光刻胶方案,翘曲度下降 35%。
新品验证:某研究院利用 300℃高温循环,揭示晶圆应力与裂纹扩展的关联机制,相关成果发表于《IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing》。
核心需求:提升 SiC、GaN 晶圆在宽温域下的稳定性。
设备价值:
环境适应:某 SiC 晶圆在 - 100℃冷启动测试中,翘曲度下降率从 12% 降至 2%,故障率降低 80%。
耐振动验证:某 GaN 晶圆通过 - 40℃/10g 振动测试,开裂率下降 70%,寿命预测准确率提升 30%。
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