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催化剂高温回转焙烧窑500kg
项目概述与核心设计需求
本项目旨在设计一套高性能、高精度、智能化的催化剂专用高温回转焙烧窑系统。该系统需满足现代催化剂生产与再生过程中对温度、气氛和环保的苛刻要求,确保催化剂产品的活性、选择性与稳定性。
核心设计需求:
控温: 工作温度范围300-1200℃,炉内恒温区控温精度需达到±3~5℃,防止催化剂活性组分(如贵金属、分子筛)因温度波动而烧结或晶型破坏。
多气氛兼容: 系统必须支持氧化(如空气、O₂)、还原(如H₂/N₂)、惰性(如N₂、Ar) 等多种工艺气氛,并能实现快速、稳定、安全的自动切换,以满足如汽车尾气催化剂周期性氧化还原再生等特殊工艺。
严格环保标准: 废气排放需满足中国《GB 37824-2025》及其他相关环保标准,有效处理VOCs、酸性气体(HCl/SOₓ)及金属粉尘,实现绿色生产。
高适应性: 系统设计需具备一定的柔性,能够处理不同形态的催化剂,包括粉末、颗粒、蜂窝陶瓷载体等。
高可靠性与智能化: 关键部件长寿命设计,整体系统自动化程度高,具备远程监控、数据记录与追溯、故障诊断与安全联锁功能。
系统核心设计模块详细技术规格
高温回转窑炉体结构
回转窑本体:
筒体材质: 采用310S或更高等级的耐热不锈钢,高温区段可采用双层结构(外层碳钢,内层耐热钢)。
倾角与转速: 变频调速,范围0.5-10 rpm,倾角可调(0-3°),以确保物料停留时间(RTD)可控。
密封系统: 采用鱼鳞迷宫+氮气气封组合式密封,确保窑头、窑尾在高温下的高密封性,防止气氛泄露和空气进入。
内衬与加热系统:
内胆材料: 采用多晶氧化铝纤维模块作为主保温层(耐温≥1600℃),热面层增加碳化硅(SiC)耐磨涂层,以抵抗催化剂物料的化学侵蚀和机械磨损,特别适用于酸性分子筛(如ZSM-5)催化剂。
加热方式:
主加热: 硅钼棒(MoSi₂) 加热元件,**使用温度1800℃,适用于氧化性及惰性气氛。
还原气氛选项: 可选配石墨加热器,专为还原性气氛(H₂/N₂)设计。
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