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目录:日立科学仪器(北京)有限公司>> 日立高新超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000II

日立高新超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000II

  • 日立高新超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000II
参考价 面议
具体成交价以合同协议为准
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  • 厂商性质 生产商
  • 所在地 北京市
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更新时间:2025-09-04 08:45:17浏览次数:156评价

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简介日立高新推出的超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000专为电子束敏感样品和需要300万倍稳定观察的半导体器件设计
简介
日立高新推出的超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000专为电子束敏感样品和需要300万倍稳定观察的半导体器件设计。通过改进的电子枪、电子光学设计以及增强的真空性能,该设备实现了的低加速电压成像效果,并配备了Super E x B能量过滤技术,以更高效、灵活地收集多种信号,从而提供的电子束稳定性和高效率的截面观察能力。

日立高新超高分辨率场发射扫描电子显微镜SU9000是专门为电子束敏感样品和需300万倍稳定观察的半导体器件,高分辨成像所设计。

  • 新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。

    • 0.4nm / 30kV(SE)

    • 0.7nm / 1kV(SE)

    • 0.34nm / 30kV(STEM)

  • 用改良的高真空性能和的电子束稳定性来实现高效率截面观察。

  • 采用全新设计的Super E x B能量过滤技术,高效,灵活地收集SE / BSE/ STEM信号。

     

     

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