设备清洗
设备长时间运行后，反应器中的沉淀物会增加，影响设备产率，应定期进行清洗。一般半年清洗一次。设备主机背侧有拓污口，可进行清洗排污。清洗时，在水射器正常工作状态下，从进气口抽入清水，清水将随反应器内的液体一同被水射器抽走；也可打开安全阀，往里注入清水进行清洗，当反应室液休颜色变浅后，打开排污阀，将残液排净，反复几次，直到清洗干净为止。
【工作条件】
- 本系列产品适用于向带压（管道投加，管网压力≤0.6Mpa)或常压水体（接触池）中投加药剂；
- 设备操作现场需要备有电源（～380V/220V）、水源（0.25≤压力≤0.5Mpa）；
- 设备间具有良好的排水及通风设施；
设备间放置地面平整，无须另做设备基础。
1. 氯酸钠原料添加：将原料罐动力水阀（1）打开，使水射器工作形成负压。打开氯酸钠吸料阀（4）。这时水射器对氯酸钠储罐吸真空，氯酸钠储罐形成负压，将氯酸钠储罐吸料口软管（20带过滤器）放入配好的氯酸钠水溶液中。氯酸钠水溶液会在负压作用下吸入氯酸钠储罐内。待氯酸钠储罐液位快要满时将氯酸钠储罐吸料口软管从氯酸钠水溶液中拿出。关闭氯酸钠吸料阀（4），关闭原料罐动力水阀（1）完成氯酸钠的添加。
安全联锁保护系统
发生器为密封设计，整个反应在负压下快速进行，且直接投加产物到使用点，从而保证了整台设备的安全操作和使用。同时设备具有反应器水套缺水停机、动力水欠水压停机保护等多种安全措施。反应器安全联锁系统在反应系统正常运行时不动作，反应器内部压力异常时，迅速动作，安全可靠。
- 控制系统的加热单元采用自动恒温闭环控制，具有加热水套缺水、温度传感器断路、短路保护及超温报警并自动停止加热等保护功能
- 运行保护单元具有动力水欠压、缺料自动停机保护功能。
- 通讯单元配有RS485通讯接口，采用Profi-bus通讯协议与上位机进行通讯，实现现场工艺参数上传和上位远动操作。
- 外来信号随动及联动单元可输入代表流量和余氯的标准电流（4-20mA）信号，并根据输入信号控制投加。
- 控制方式： ClO2发生装置采用连续运行方式，流量、余氯控制。
