正性光刻胶
品牌：futurrex?
正性光刻胶分为粘性增强正性光刻胶。粘度增强正胶的应用是湿刻、反应离子束刻蚀、离子植入、电镀。
| 正性光刻胶 |
光刻胶型号
PR1-1000A
PR1-2000A
PR1-4000A
PR1-12000A | 厚度
0.7μm - 2.1μm
1.4μm - 4.2μm
2.8μm - 15.0μm
11.8μm - 24.5μm |
| 耐温性能< 130°C |
应用
- 正性光刻胶的粘附性良好，可用于干法刻蚀/湿法刻蚀/电镀/离子注入.
正性光刻胶PR1-4000A的典型侧壁轮廓
厚度 = 10μm
| 正性光刻胶用显影液（用于正性光刻胶的水性显影液）: |
| 常用光刻胶 |
| 厚度范围: | 0.7 - 3 微米 |
| 性能: | - 无需使用增粘剂
- 有效抑制反射凹痕
- 消除光敏剂升华，防止烘培中堵塞排气管路
- 良好的分辨率 .
- 曝光时间短 .
- 显影时间短.
- 良好的耐温性 .
- 易于用RR4去胶液去除 .
- 常温下可储存1年 .
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| 应用 : | - 蚀刻，离子注入，金属电镀工艺制造:
- 集成度路
- 微系统
- 平板显示
- 高密度封装
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| 厚膜光刻胶 |
| 厚度范围: | 3 - 25 微米 |
| 性能: | - 良好的分辨率 .
- 光刻速度快，有利于提高曝光效率.
- 显影时间短.
- 在离子刻蚀制程中有良好的选择性 .
- 易于用RR4去胶液去除.
- 常温下可储存1年.
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| 应用: | - 金属电镀，离子注入工艺制造
- 集成电路
- 微系统
- 平板显示
- 高密度封装
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