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PECVD系统，它由管式炉，石英真空室、真空系统、供气系统、射频电源系统等组成。主要使用于:金属薄膜，陶瓷薄膜等，复合薄膜，石墨烯等生长。增加功能容易，可扩展等离子清洗刻蚀等功能。该PECVD系统具有： 薄膜沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高等优点。
RF射频电源主要技术参数：
功率输出范围 | 0-500W |
**反射功率 | 200W |
工作频率 | 射频：13.56MHZ±0.005% |
功率稳定度 | +/-0.1% |
谐波分量 | ≤-50dbc |
射频区域宽度 | 0-600mm 可调 |
匹配方式 | 自动 |
冷却方式 | 分冷 |
噪声 | <50dB |
射频接口 | 50Ω N-type |
输入电源 | 208-240V 50/60HZ |
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