深圳市赛克数码科技开发有限公司   总设计师     汤 宁 彭志萍

“时下人性化的全自动影像测量仪软件” 

555)this.width=555" border=undefined>

此软件由深圳市赛克数码科技开发有限公司自主研发,拥有全部自主知识产权,为赛克数码新一代全自动影像测量仪的随机软件,亦可针对客户特殊需要进行个性化二次开发。

一、全自动影像测量技术实现了点哪走哪自动测量：

“点哪走哪”是一种“所见即所得”的运动控制能力。与初级阶段的操作杆驱动方式的影像测量仪相比，“点哪走哪”省去了方位判断、X/Y操控移位、人工变速（走位需要调快速度急行、对位需要调慢速度靠近）、偏移判视、偏移修正等手眼同用、频繁切换的繁杂操控过程；全自动影像测量仪只需使用鼠标，在软件界面里被测影像区或全视场鸟瞰地图中找到目标，轻松点击一下，仪器便会快速而地走向目标并完成自动取点测量，极为便捷，提高工作效率十倍以上。

     二、全自动影像测量技术实现了CNC走位自动测量：

CNC走位，是全自动影像测量仪承续的数字化影像仪的基础功能之一，通过样品实测、图纸计算、CNC数据导入等方式建立CNC坐标数据，由仪器自动走向一个一个的目标点完成自动测量，数十倍地提高工作效率。全自动影像测量仪支持CNC编程和数据模板——CAD图形导入功能，运用CNC走位自动测量功能可实现实模对照的数字化模板工艺，从此告别古老的传统模板工艺时代。

     三、全自动影像测量技术实现了CNC扫描批量测量：

全自动影像测量仪拥有CNC扫描大批量测量功能，可通过操作界面设定步幅、步数、行幅、行数，可以实现大批量扫描测量。亦可运用CNC走位自动测量与CNC扫描批量测量功能像结合，实现CNC复合测量。从而使影像测量仪具有了全自动光学检测仪（AOI）的性能特征，批测效率提高百倍，操作人员轻松而。 

四、全自动影像测量技术实现了自动学习批量测量：

全自动影像测量仪拥有基于机器视觉与过程控制的自动学习功能，依托数字化仪器高速而的微米级走位，可将测量过程的路径，对焦、选点、功能切换、人工修正、灯光匹配等操作过程自学并记忆。批量测量，全自动影像测量仪可以轻松学会操作员的所有实操过程，结合其自动对焦和区域搜寻、目标锁定、边缘提取、理匹选点的模糊运算实现人工智能，可自动修正由工件差异和走位差别导致的偏移实现选点，具有高精度重复性。从而使操作人员从疲劳的目视对位，频繁选点、重复走位、功能切换等单调操作和日益繁重的待测任务中解脱出来，成百倍地提高工件批测效率,满足工业抽检与大批量检测需要，优异的软硬件性能让坐标尺寸测量变得便捷而惬意。

     五、全自动影像测量技术实现了影像地图全屏牵引：

全自动影像测量仪拥有CNC扫描拍摄能力，可以通过设置扫描范围，由仪器连续摄拍区域内的n幅目标影像图。全自动影像测量仪还拥有图像自动拼接与合成能力，可以将n幅目标影像自动合成后生成全视场影像地图。值得一提的是，部分优异的半自动影像测量仪也具有影像地图全屏指引功能（市面上有把图形窗口的全览功能当成影像地图，当属指鹿为马之误），可以在影像地图上清晰地看到正在测量的方位。然而，“全屏指引”只是初级功能，功能是：可以在影像地图上点哪走哪，实现影像地图全屏牵引。“指引”与“牵引”，看似一字之别，前者能“所见”，后者不仅能“所见”，而且能“所得”（点哪走哪）—— “所见即所得”的人性化操控能力；         

     六、全自动影像测量技术实现了鹰眼缩放回位

         全自动影像测量仪拥有图形窗口，测量/测绘结果以图形方式显示于窗口之中。测量/测绘图形具有无级缩放能力，可全览/局部缩放；可在窗口中进行类似于CAD软件的测量与标注操作。全自动影像测量仪还拥有在图形窗口中点哪走哪的人性化操控功能，可通过点击图形回位，复查结果补测或追加测量选项。实现点哪走哪全屏牵引，高速而便捷。

     七、全自动影像测量技术实现了自动对焦辅助测高

全自动影像测量仪拥有基于机器视觉的图像清晰度软件算法，具有微米伺服控制模式（技术）下的快速自动对焦功能。可通过对不同层面的自动对焦操作，实现辅助测高（亦可安装三坐标机用测量触头实现测高）。

     八、全自动影像测量技术实现了SPC统计自动分类

全自动影像测量仪拥有如上所述的优异批测能力，其的尺寸测量性能已超越全自动光学检测仪（AOI），成为当今zui的品检工具。与自动批测相配合的SPC结果自动分类功能，大为简化了人工操作，数十倍提高工作效率，让质控过程变得轻松便捷。将繁杂的工序变成了测量模块选项、测量方式选定，把过程交给仪器，完成测量后再打印SPC报表，按结果剔除超标件。

555)this.width=555" border=undefined>

《用户手册》

555)this.width=555" border=undefined>

本文作者：汤 宁  《应用光学》编委  《微纳电子技术》理事