KRI 考夫曼射频离子源用于制备超薄 TEM 样品

来源：上海伯东企业有限公司 2020年10月26日 14:34

普通传统的制样减薄方法存在远端的薄区极易弯曲和薄区厚度不均匀的问题, 因此某机构采用伯东 KRI考夫曼聚焦型射频离子源 RFICP 380 通过交叉减薄的方法制备超薄 TEM 样品.

交叉减薄

交叉减薄的过程利用 TEM 样品台的旋转来完成, 如下图.

TEM 样品台模型图

伯东 KRI 考夫曼聚焦型射频离子源 RFICP 380 技术参数:

推荐理由:

使用 KRI 考夫曼聚焦型射频离子源 RFICP 380 可以准确、灵活地对样品选定的区域进行刻蚀、沉积和减薄.

运行结果:

1. 通过利用 KRI 考夫曼聚焦型射频离子源 RFICP 380 和样品台交叉减薄得到的薄区非常均匀, 边缘整齐. 相比较传统减薄方法, 交叉减薄避免了样品在倾斜52°和56°减薄时出现的边缘收缩问题和远端薄区弯曲问题.

2. 对于复合材料大大降低了位于两相界面处薄区的厚度, 提高了样品质量, 提高了制样的成功率和效率.

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口品牌的代理商.

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