KRi 离子源电子束蒸发系统辅助镀膜应用-仪表网

公司介绍主营产品

位于中国上海浦东外高桥保税区的伯东企业（上海）有限公司创建于1995年12月，, 是日本伯东株式会社独资设立的外商投资企业，公司注册资金为200万美元，到目前为止公司从业员工有400多人。
伯东企业（上海）有限公司真空产品事业部()专业销售及维修德国Pfeiffer单双级旋片泵，干泵，罗茨泵，分子泵；应用于各种条件下的真空测量(真空计, 真空规管)；检漏仪，质谱仪，真空系统等等, 维修技术力量雄厚，保证 100 % 拥有标准的德国Pfeiffer原厂测试设备及调整工具和德国Pfeiffer专业培训工程师，多年来致力于真空系统的安装、调试、维修、拆机、保养等，具有优良的专业技能和服务意识，并获得原厂*维修资质证书。利用 Pfeiffer 进口检测设备对维修后的产品做*性能测试。另外公司还代理美国Brooks CTI Cryopump 冷凝泵/低温泵, Polycold 冷冻机和美国KRI 离子源，HVA 高真空阀门。公司一直坚持品质*、信誉*的原则，为广大客户提供了高品质的产品以及良好的售后服务。到目前为止已先后通过了美国UL安全认证、ISO9001－2000质量体系认证、ISO14001－1996环境体系认证。公司将在今后的发展中秉承以人为本，不断开拓进取的精神，为满足客户的需求努力向专业化、优质化、集团化发展。

为将国外的高科技产品与中国经济和社会的飞速发展紧密结合，为促进国内.贸易的快速发展,伯东企业(上海)有限公司,以高科技推动现代化，以高质量服务全中国, 坚持不懈,奋斗不息。伯东公司是一家专业代理公司,代理上公司的半导体设备.接插件.电子器件.精密仪器等,公司秉承改革.创新.求真.发展的基本原则, 精心构建诚信、互动、共赢的价值体系, 为所有的客户提供优质的产品, 同时,提供全伯东集团网络支持下的较早.Z快的信息与Z及时周到的服务,伯东公司愿意与世界各地的客户联手合作,共建一个诚信.发展.共同进步的良好环境.

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产地	进口	加工定制	否

上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源 KDC 系列, 通过加热灯丝产生电子, 是典型的考夫曼型离子源, 离子源增强设计输出低电流高能量宽束型离子束, 通过同时的或连续的离子轰击表面使原子(分子)沉积在衬底上形成薄膜, 实现辅助镀膜 IBAD.

KRi 离子源电子束蒸发系统辅助镀膜应用产品详情

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准

上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源 e-beam 电子束蒸发系统辅助镀膜应用
上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源 KDC 系列, 通过加热灯丝产生电子, 是典型的考夫曼型离子源, 离子源增强设计输出低电流高能量宽束型离子束, 通过同时的或连续的离子轰击表面使原子(分子)沉积在衬底上形成薄膜, 实现辅助镀膜 IBAD.

e-beam 电子束蒸发系统加装 KRi 离子源作用
通过向生长的薄膜中添加能量来增强分子动力学, 以增加表面和原子/分子的流动性, 从而导致薄膜的致密化.
通过向生长薄膜中添加活性离子来增强薄膜化合物的化学转化, 从而得到化学计量完整材料.

使用美国 KRi 考夫曼离子源可以实现
增强和控制薄膜性能, 薄膜致密化的改进, 控制薄膜化学计量, 提高折射率, 降低薄膜应力, 控制薄膜微观结构和方向, 提高薄膜温度和环境稳定性, 增加薄膜附着力, 激活表面, 薄膜界面和表面平滑, 降低薄膜吸收和散射, 增加硬度和耐磨性.

KRi KDC 考夫曼离子源典型案例:
设备: e-beam 电子束蒸发系统
离子源型号: KDC 75
应用: IBAD 辅助镀膜, 在玻璃上镀上高反射率膜 (光栅的镀膜)
离子源对工艺过程的优化: 无需加热衬底, 对温度敏感材料进行低温处理, 简化反应沉积

上海伯东美国 KRi 离子源适用于各类沉积系统 (电子束蒸发或热蒸发, 离子束溅射, 分子束外延, 脉冲激光沉积), 实现 IBAD 辅助镀膜

IBAD辅助镀膜

美国 KRi KDC 考夫曼型离子源技术参数：

型号	KDC 10	KDC 40	KDC 75	KDC 100	KDC 160
Discharge 阳极	DC 电流	DC 电流	DC 电流	DC 电流	DC 电流
离子束流	>10 mA	>100 mA	>250 mA	>400 mA	>650 mA
离子动能	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V
栅极直径	1 cm Φ	4 cm Φ	7.5 cm Φ	12 cm Φ	16 cm Φ
离子束	聚焦, 平行, 散射
流量	1-5 sccm	2-10 sccm	2-15 sccm	2-20 sccm	2-30 sccm
通气	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr
长度	11.5 cm	17.1 cm	20.1 cm	23.5 cm	25.2 cm
直径	4 cm	9 cm	14 cm	19.4 cm	23.2 cm
中和器	灯丝

上海伯东美国 KRi 离子源 KDC 系列适用于标准和新兴材料工艺. 在原子水平上工作的能力使 KDC 离子源能够有效地设计具有纳米精度的薄膜和表面. 无论是密度压实, 应力控制, 光学传输, 电阻率, 光滑表面, 提高附着力, 垂直侧壁和临界蚀刻深度, KDC 离子源都能产生有益的材料性能. 上海伯东是美国 KRi 离子源中国总代理.

上海伯东同时提供 e-beam 电子束蒸发系统所需的涡轮分子泵, 真空规, 高真空插板阀等产品, 协助客户生产研发更高质量的设备.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专li. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域.

若您需要进一步的了解考夫曼离子源, 请参考以下联络方式
上海伯东: 罗先生

关键词：标准

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