NexION 300S ICP-MS 对光刻胶中的Si的分析-资料下载-珀金埃尔默企业管理（上海）有限公司

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NexION 300S ICP-MS 对光刻胶中的Si的分析

阅读：893 发布时间：2020-5-21

使用ICP、ICP-MS分析时存在光学干扰，而仪器的结构又决定了Si的检出限比其他元素更高，所以为了分析低浓度的Si，必须去除光学干扰或更换仪器进样系统 ( 雾室、雾化器、中心管、炬管 )。

本实验的目的是利用NexION 的 DRC模式确定分析Si的好条件。

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