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磁力拉杆式硫化钼制备CVD设备

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品       牌

厂商性质经销商

所  在  地合肥市

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更新时间:2023-05-16 07:41:49浏览次数:54次

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主要特点  此设备特点是将硫粉放于左端冷区,当硫化过程开始时利用拉杆式将硫粉推进热场

  主要特点

  此设备特点是将硫粉放于左端冷区,当硫化过程开始时利用拉杆式将硫粉推进热场。控制电路选用模糊PID程控技术,具有控温精度高,温冲幅度小,性能可靠,简单易操作。同样也适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。

 

  技术参数

拉杆式硫化钼制备设备
炉管尺寸:
外径Φ25/50/60/80/100*1000mm(可选)
极限温度:
1200℃
工作温度:
≤1100 ℃
温度控制器:
PID自动控制晶闸管(可控硅)输出功率, 30段可编程控制器
升温速率:
≤50℃/min
加热区:
200+200mm
恒温区:
100+100mm
控温精度:
±1 ℃
电源:
单相220V,交流50Hz
3路质量流量供气系统
(触摸屏控制)
拉杆式硫化钼制备设备
电压:
185~245V/50Hz
输出功率:
18W
流量计标准量程:
100 ,200,500SCCM
(非特殊以氮气标定,量程可选定)
工作温度:
5~45 ºC
工作压差:
0.1~0.5 MPa
压力:
3MPa
准确度:
±1.5% FS 
低真空系统
拉杆式硫化钼制备设备
抽速:
8.11 m³/h
极限总压:
3×10-3 mabr
进排气口:
DN 25 KF
噪音
(气镇开关时,距离1米处测量)
54 dB
注油量:
0.7- 1.1 L
重量:
21 Kg
工作温度:
10~40 ℃
功率:
550W

 

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