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Aridus3膜去溶雾化系统

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产品简介

Aridus3 膜去溶雾化系统采用低流量、微量雾化器，只需极低量样品就能分析所有元素，同时系统全部采用PFA惰性材料，可应用于含HF酸的样品，的废液反抽技术进一步提高了稳定性。

详细介绍

技术参数

可移动的模块化膜去溶设计，拆装和清洗方便
带盖保护的PFA雾化室，避免静电干扰
*膜去溶技术，有效减少溶剂对ICP-MS的干扰，显著降低氧化物和氢化物水平
大大改善信号的稳定性，即使是有机溶剂（如甲醇）
提高ICP-MS的灵敏度4-10倍以上
可选配QuickWasp清洗装置，有效抑制记忆效应
采用质量流量控制器（MFC）精准控制气体流量
可通过Aridus Link软件远程控制加热温度和气体流速
实验完成后可启动气体自动关闭程序，大大节约氩气成本

关键词：质量流量控制器

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