深圳海创德科技有限公司
把待镀膜的基片或工件置于真空室内,通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程,称为真空蒸发镀膜,简称蒸发镀膜或蒸镀
把待镀膜的基片或工件置于真空室内,通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程,称为真空蒸发镀膜,简称蒸发镀膜或蒸镀。
技术参数:
1 本底真空10-7 Torr;
2 束源炉,坩埚,蒸发舟等;
3 石英晶振测量膜厚;
4 基片加热温度可选:300℃/500℃/850℃;
5 可配备离子束辅助沉积;
6 可配备快速进样室;
7 可与手套箱集成;
8 可根据用户要求定制系统;
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