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低压化学气相沉积(LowPressureChemicalVaporDeposition,LPVD)是指在较低气压下环境进行薄膜沉积,可进行大面积小批量样品沉积
低压化学气相沉积(Low Pressure Chemical Vapor Deposition, LPVD)是指在较低气压下环境进行薄膜沉积,可进行大面积小批量样品沉积。
技术参数:
1 基片尺寸可定制,可达10 英寸;
2 加热温度 1700 ℃,单温区或者多温区可选;
3 最多可配置6路工艺气体;
4 配备油泵或者干泵,可选配分子泵;
5 样品水平,垂直两种配置模式;
6 可小批量量产;
应用领域:
LPCVD
退火
扩散
氧化
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