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低压化学气相沉积(LPCVD)

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产品型号

品       牌

厂商性质其他

所  在  地深圳市

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更新时间:2023-01-14 07:44:59浏览次数:346次

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经营模式:其他

商铺产品:73条

所在地区:广东深圳市

联系人:瞿经理

产品简介

低压化学气相沉积(LowPressureChemicalVaporDeposition,LPVD)是指在较低气压下环境进行薄膜沉积,可进行大面积小批量样品沉积

详细介绍


低压化学气相沉积(Low Pressure Chemical Vapor Deposition, LPVD)是指在较低气压下环境进行薄膜沉积,可进行大面积小批量样品沉积。


技术参数:

1 基片尺寸可定制,可达10 英寸;

2 加热温度 1700 ℃,单温区或者多温区可选;

3 最多可配置6路工艺气体;

4 配备油泵或者干泵,可选配分子泵;

5 样品水平,垂直两种配置模式;

6 可小批量量产;


应用领域:

LPCVD

退火

扩散

氧化

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