上海依肯机械设备有限公司
上海依肯机械设备有限公司
实验室中试型胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。适合于大颗粒高粘度物料的研磨分散均质混合。
实验室中试型胶体磨
（咨询请：上海依肯机械设备有限公司 袁天刚 公司有样
机供客户实验）
产品特性：分体式胶体磨,高剪切胶体磨,高速胶体磨,中试型胶体磨
产品简介：是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。适合于大颗粒高粘度物料的研磨分散均质混合。
| 品牌 | IKN | 型号 | CM2000 | 所在地 | 上海松江区 |
上海依肯机械设备有限公司
详细介绍：
实验室胶体磨
LP2000/4 （胶体磨块） | |
功率 | 2.2KW |
转速 | 0-14000rpm |
线速度 | 0-40m/s |
尺寸（长X宽X高） | （450X250X350）mm |
重量 | 30KG |
操作条件 | 0-2.5bar |
是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生 向下的螺旋冲击力，透过定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。
CM2000/4是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。 CM2000/4的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。 CM2000/4的定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
的细化作用一般来说要弱于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。 物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时，须选用压力或输送泵进料或送料，输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。
公司另外一项*的创新，就是锥体磨CMO2000系列，它的设计使其功能在原有的CM2000的基础上又进了一步。由于这项创新，CMO2000能够湿磨和研磨，产生的颗粒粒径甚至比胶体磨CM2000还小。研磨间隙可以无级调节，从而可以得到精确的研磨参数。
研磨头的表面涂上了一层极其坚硬的硬质材料，从而使其表面具有非常粗糙的纹理。这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成，并且具有不同的粒径。研磨头处形成了一个具有强烈剪切的区域，可以输送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和zui后的粒径大小都比胶体磨CM的效果更加理想。
实验室胶体磨与中试型胶体磨的主要区别
CM2000/4（PP系列）为中试型胶体磨的技术参数：功率2.2-4 KW,转速0-14000rpm,线速度 0-40m/s，电压380V,机器产量为 0– 700 升/小时（水），重量45KG, 尺寸 （长宽高450X250X350）MM，PP使用双机械密封，可24小时不停机连续生产，并通冷媒对密封部分进行冷却。通过变换模块，可以实现多功能多用途。机械密封和机械设计符合3A健康标准，是中试和小批量生产的*选择。
CM2000/4（LP系列）为实验室胶体磨的技术参数：功率1.5-2.2KW,转速0-14000rpm,线速度 0-40m/s,电压380V,机器产量为 0– 700 升/小时（水），重量35KG,尺寸 （长宽高450X250X350）MM，LP使用轴封（PTFE 环），在正常的情况下，一般轴封可以使用3000-4000次。LP不能24小时连续使用，一般zui多可以使用连续半个小时，这要依据料液的温度和转速而定。LP也可以通过变换模块，可以实现多功能多用途。是中试生产的*选择。
如有疑问请致电IKN工程师，IKN全体员工将竭诚为您服务！IKN主：www.iknchina.cn www.iknchina.com 袁 alex@iknsh.com
您感兴趣的产品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
仪表网 设计制作，未经允许翻录必究 .
请输入账号
请输入密码
请输验证码
