世伟洛克原子沉积阀 返回列表页

世伟洛克原子沉积阀

品名：316L VIM-VAR ALD 阀，1/4 in. 内螺纹 VCR, SC-01, NO 执行器

品牌：世伟洛克

尺寸：1/4 in. 内螺纹 VCR, SC-01, NO 执行器

材质：316不锈钢

原子层沉积是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，这种方式使每次反应只沉积一层原子。

高性能 ALD 阀是世伟洛克长期以来在半导体制造业中显示出迅速积极的技术领导力的一个重要例子。ALD 阀技术问世以来，世伟洛克与半导体行业的客户密切合作，了解他们的需求，然后打造出 ALD 阀，提供必要的、高水平的精度、一致性、清洁度和高循环寿命，以跟上市场的快速创新步伐。我们的 ALD 超高纯阀具有以下特点：

快速开关下的超高循环寿命

流量系数从 0.27 至 1.7

使用耐热执行机构时，可在 392°F (200°C) 下*浸入

适合于采用标准 316L VIM-VAR 不锈钢阀体的超高纯应用

模块化表面安装、卡套管对焊和世伟洛克 VCR® 端接

电子或光学执行机构位置传感选购件

世伟洛克原子沉积阀