北京正通远恒科技有限公司
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PLD薄膜沉积系统是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。PLD的*之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。这样，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有*功能的纳米结构和纳米颗粒。另外，PLD是一种“数字"技术，在纳米尺度上进行工艺控制（A/pulse）。
PLD薄膜沉积系统技术参数：
型号 | Pioneer240 | Pioneer180 | Pioneer120 | Pioneer80 |
zui大wafer直径 | 8" | 6" | 2" | 1" |
zui大靶材数量 | 6个1" 或4个2" | 6个1" 或4个2" | 6个1" 或3个2" | 4个1" |
压力(Torr) | <10-8 | <10-8 | <10-8 | <10-8 |
真空室直径 | 24" | 18" | 12" | 8" |
基片加热器 | 8"，旋转 | 6"，旋转 | 3"， 旋转 | 2"，旋转 |
zui高样品温度 | 850 ° C | 850 ° C | 950 ° C | 950 ° C |
Turbo泵抽速 | 800 | 260 | 260 | 70 |
计算机控制 | 包括 | 包括 | 包括 | 包括 |
基片旋转 | 包括 | 包括 | - | - |
基片预真空室 | 包括 | 选件 | 选件 | - |
扫描激光束系统 | 包括 | 选件 | - | - |
靶预真空室 | 包括 | - | - | - |
IBAD离子束辅助沉积 | 选件 | 选件 | 选件 | - |
CCS连续组成扩展 | 选件 | 选件 | - | - |
高压RHEED | 选件 | - | - | - |
520 liters/sec泵 | a/n | 选件 | - | - |
PLD薄膜沉积系统主要特点：
*PLD概念清晰易懂：激光束使靶子表面蒸发，生产出与靶子同样化学组成的膜。
*PLD应用广泛：很多材料在多样的气体环境和很宽的气体压力范围内都可以镀膜。
*PLD节省成本：一束激光能够供多个真空系统使用。
*PLD高效率：在10至15分钟，可生长高质量的样品。
*PLD可升级：当需要大批量生产复合氧化物膜时，Neocera公司将证明作为生产工具的价值。
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