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*混悬液,也叫吗丁啉,为白色混悬液,味甜,用于消化不良、腹胀、嗳气、呕吐、腹部胀痛。对于混悬液药剂的制备国家有严格的规定:药物本身的化学性质应稳定,在使用或贮存期间含量应符合要求;混悬剂中微粒大小根据用途不同而有不同要求;粒子的沉降速度应很慢、沉降后不应有结块现象,轻摇后应迅速均匀分散;混悬剂应有一定的粘度要求。
*混悬剂胶体磨介绍:混悬液中的微粒大小是不均匀的,大的微粒总是迅速沉降,细小微粒沉降速度很慢,细小微粒由于布朗运动,可长时间悬浮在介质中,使混悬液长时间地保持混悬状态。制备混悬液时,应使混悬微粒有适当的分散度,粒度均匀,以减小微粒的沉降速度,使混悬液处于稳定状态。传统的混悬液生产都是采用普通胶体磨,转速只有3000rpm,生产出来的悬浮液颗粒较粗,静置一段时间容易产生絮凝,影响药效和使用,为此有医药厂家在考察了国内的设备之后,放弃了具有极度价格优势的国内设备,来询问低能耗、高转速、极精密定转子、研磨细的上海思峻高速胶体磨。该设备转速达到14000RPM,这可以通过变频调速通过皮带加速来实现。(转速是普通分散设备3-4倍,研磨的力度也是普通胶体磨的3-4倍,这样研磨的细度更小,效果更好)混悬液胶体磨GM2000三级错齿结构的研磨转子,配合精密的定子腔。
GM2000采用了三级错齿磨头定转子,磨头定转子间隙在0.2-0.7之间,间隙可通过调节高速研磨机本身的调节柄来调节设备间隙,在转速不变的情况下,间隙越小,速胶体磨研磨、分散效果会越好。顾名思义,高速胶体磨有着非比寻常的转速,思峻工程师们通过改变皮带轮的传动比例,使原本只有3000rpm的电机,经过传动后设备转速可以高达9000rpm。实践证明,在磨头定转子间隙不变的情况下,转速越高,高速研磨机研磨、分散效果越好。
如果客户想要使物料达到更好的效果,我们提供丹弗斯变频器供客户选择,高速胶体磨在变频后转速可以达到14000rpm,是国内设备转速的4-5倍,可谓是极速。混悬液胶体磨GM2000结构机理:由电动机、连接体、磨头等组成,磨盘采用优质不锈钢锻压制成,磨盘表面有三个以上沟槽,分为三级。每一级的沟槽刀齿数量、方向及宽度不同,越是向外延伸一级,磨片精度越高、齿距越小、线速度越长、物料越磨越细、刀齿的数量越多、剪切面越大、线速度越长、流体速度越快、细化效果越好。机械密封分:硬质内装机械密封、外装双面硬质机械密封、金属波纹硬质机械密封等三种密封可选。磨盘刀齿根据需要可以进行特殊氮化处理,增强刀齿的硬度,起到更耐磨、耐腐蚀的作用。转磨与定磨可根据物料粘度、产量、颗粒细度进行手工调节,其功效为剪切率大、线速度长、*、处理量大、均质细化效果好。
思峻与国内胶体磨相比:
(1)转速和剪切速率:
思峻胶体磨,可选择德国机械密封,转速可以达到15000转
F=23/0.7X1000=32857S-1
F=40/0.7/X1000=57142S-1
国内胶体磨,可选择机械密封一般3000转,大约在14293-215440S-1
通过转速比较可知,这是乳粉碎研磨的重要因素,相当于前者是后者的2-3倍。
(2)胶体磨头和间距:
思峻胶体磨,可以选择六种不同的模块头,实现多种功能,如三级乳化模块,超高速模块,GM胶体模块,批次粉液液混合模块,连续粉液混合模块,间距可调,可实现1-10微米小粒径材料加工。
国内胶体磨,只有一种模块头,粒径细度有限,100微米以下较困难,重复性差。
(3)机械密封:
思峻胶体磨,双机械密封,易于清洗,将泄漏降至zui低,可24小时不停运转。
国内胶体磨,单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁。
(4)清洗:
思峻胶体磨,立式,皮带驱动,易于维护,可有效保护马达及齿轮箱,防止损坏,符合流体流动原理,具有GIP/SIP在线清洗,在线杀菌功能,无需拆卸,机器设计*,立式结构符合流体原理,清洗更简便。
国内胶体磨,卧式或立式(马达一体式),轴承部分受力较大,易于损坏,维护保养复杂,通常情况,需要拆卸机器进行清洗。