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M4型全谱直读光谱仪
采用标准的设计和制造工艺技术，全数字化及互联网技术结合，运用高分辩率CMOS检测器，精密设计的氩气吹扫系统，使仪器具有较高的性能、较低的成本、以及竟争力的价格。
M4型全谱直读光谱仪采用标准的设计和制造工艺技术，全数字化及互联网技术结合，运用高分辩率CMOS检测器，精密设计的氩气吹扫系统，使仪器具有较高的性能、较低的成本、以及竟争力的价格。
M4型全谱直读光谱仪应用于多基体的、高性能的全谱直读光谱仪
01 优异的分析性能、非常紧凑的仪器结构
02 用于多种基体、多种材料的分析，分析范围覆盖了几乎所有的重要元素，可以满足绝大多数现代铸造业的应用需求。
03 高亮度全息光栅具备3600条/mm刻线，使得分光系统具有高的分辩率。
04 氩气吹扫光室配置了优化设计的低流速吹氩系统，既保证低的使用成本又保证紫外区的透过率。
05 应用高分辩率多CMOS读出系统，较低的暗电流、较好的检出限、较高的稳定性、较强的灵敏度。
06 全数字化的智能复合光源DDD技术，充分满足不同基体、不同样品以及不同元素的激发要求。
07 一体式开放火花台，可以满足各种不同样品结构的分析。
08 配置多条工厂校正曲线及更多的材料分析方法和*的解决方案。
09 可根据用户的材料要求，延长标准曲线的测量上、下限。
精密设计的氩气吹扫系统
光室密封性强，可保持内部氩气*纯净。
光室空间优化设计，降低氩气消耗，有效节约产生成本。
低氩气吹扫系统，确保光室UV波段测量环境。
光室充氩免除复杂的真空系统。
