辉光放电光谱仪

摘要日本HORIBA GD-Profiler 2™辉光放电光谱仪GD-Profiler 2™ 可以快速、同时分析所有感兴趣的元素，包括气体元素N、O、H和Cl，是薄膜和厚膜表征和工艺研究的理想工具。GD-Profiler 2™ 配备的射...

摘要简要描述： GDOES光谱仪GDA 550 HR和GDA 750 HR是*强大的GDOES光谱仪，非常适合研发任务。基于模块化概念，可以设想多种选项组合，因此可以为您的应用实现*佳配置。GDA 550 HR主要用于研究您的导电样品。GDA 750 HR也用于分析不导电...

摘要简要描述： GDOES光谱仪GDA 550 HR和GDA 750 HR是强大的GDOES光谱仪，非常适合研发任务。基于模块化概念，可以设想多种选项组合，因此可以为您的应用实现佳配置。GDA 550 HR主要用于研究您的导电样品。GDA 750 HR也用于分析不导电样品...

摘要简要描述： GDOES光谱仪GDA 550 HR和GDA 750 HR是强大的GDOES光谱仪，非常适合研发任务。基于模块化概念，可以设想多种选项组合，因此可以为您的应用实现佳配置。GDA 550 HR主要用于研究您的导电样品。GDA 750 HR也用于分析不导电样品...

摘要 SPECTRUM 高分辨率辉光放电光谱仪 GDA Alpha采用新研发的CCD检测器，使得辉光放电光谱仪技术迈入了一个全新的时代。

摘要 辉光放电光谱仪

摘要 GD-Profiler™ HR辉光放电光谱仪

摘要 德国SPECTRUMA公司于1980年成立，是一家专注于技术创新和生产的高技术科学仪器公司。辉光放电光谱仪可做到： - 对材料表面涂覆过程的质量监控和各种表面处理工艺的过程监测； - 采用深度剖面分析技术，可以精确地测定涂层厚度和化学成分。

摘要 德国SPECTRUMA公司于1980年成立，是一家专注于技术创新和生产的高技术科学仪器公司。辉光放电光谱仪可做到： - 对材料表面涂覆过程的质量监控和各种表面处理工艺的过程监测； - 采用深度剖面分析技术，可以精确地测定涂层厚度和化学成分。

摘要 德国斯派克辉光放电光谱仪型号：GDA-750辉光放电分析（GDA）于1968年出现，最初用于各种块状金属和合金的光谱化学分析

摘要 现在，大多数的材料都是多层结构，比如太阳能光伏电池、LED、硬盘、锂电池电极、镀层玻璃等

摘要GD-Profiler 2™提供了快速、同时分析所有感兴趣的元素，包括氮、氧、氢和氯。是薄膜描述和工艺研究的理想工具。配有RF光源，可以在脉冲模式下检测易碎的样品，GD-Profiler 2™的应用范围从对腐蚀的研究到PVD涂层的工艺控制，在大...

摘要 辉光放电直读光谱仪（GD-OES）是适用于涂（镀）层厚度和表面深度组成以及元素成分的*分析技术。它在热处理，电镀，化学及物理镀层工艺中有着广泛的应用前景。

摘要 辉光放电直读光谱仪（GD-OES）是适用于涂（镀）层厚度和表面深度组成以及元素成分的*分析技术。它在热处理，电镀，化学及物理镀层工艺中有着广泛的应用前景。

摘要 辉光放电分析（GDA）于1968年出现，初用于各种块状金属和合金的光谱化学分析。 这种分析方法不断地发展，尤其擅长于表面和涂层分析。与传统的激发技术相比，辉光放电 技术的突出优点是能够表层分析样品的表层。

摘要 辉光放电光谱仪

摘要 辉光放电光谱仪

摘要 辉光放电光谱仪

摘要 辉光放电光谱仪

摘要 辉光放电光谱仪

摘要 辉光放电光谱仪

摘要 辉光放电光谱仪

摘要 辉光放电光谱仪

摘要 辉光放电光谱仪

摘要 辉光放电光谱仪

摘要 脉冲射频辉光放电光谱仪—可超快速进行薄/厚膜的深度剖析在过去的15年中，HORIBAScientific不断与*的等离子体镀层研究组织进行跨领域合作，使得HORIBAScientific的辉光放电光谱仪性能得到了大幅度提升

摘要 法国Jobin Yvon GD-Profiler型辉光放电光谱仪是快元素深度分布分析工具。

摘要 SPECTRUM 高分辨率辉光放电光谱仪 GDA Alpha采用新研发的CCD检测器，使得辉光放电光谱仪技术迈入了一个全新的时代。

摘要 SPECTRUM 高分辨率辉光放电光谱仪 GDA 750/GDA 550，是高灵敏度、高性能的光谱仪，可适用于表面和涂镀层的化学元素含量分析。

摘要 SPECTRUM 高分辨率辉光放电光谱仪 GDA 650/GDA 150的成功推出， 意味着以CCD检测器为代表技术的辉光放电光谱仪进入了新的高度。

摘要 GDA750/GDA550是高灵敏度、高性能的光谱仪，可适用于表面和涂镀层的化学元素含量分析。多达79个分析通道，采用PMT检测器，GDA750/GDA550型辉光放电光谱仪是高分辨率、高灵..

摘要 GDA650/GDA150的成功推出，意味着以CCD检测器为代表技术的辉光放电光谱仪进入了新的高度。GDA650/GDA150装备有一代的CCD固态检测器，与高分辨率光学系统匹配。..

摘要 GDAAlpha采用研发的CCD检测器，使得辉光放电光谱仪技术迈入了一个全新的时代。GDAAlpha装备有一代的CCD固态检测器，与高分辨率光学系统匹配。新一代的CCD检..

摘要 辉光放电光谱仪是解密镀层工艺、解析镀层结构的强有力手段，可以通过元素变化获得镀层结构、层间扩散、元素富集、表面处理、镀层均一性等信息，从而改善工艺条件等。主要应用行业有金属冶金、半导体器件、LED芯片、薄膜太阳能电池、锂电池阴阳极、光学玻璃、核材料等。

摘要 GD-Profiler™ HR辉光放电光谱仪

摘要 Profiler 2射频辉光放电光谱仪

摘要 GDOES光谱仪GDA 550 HR和GDA 750 HR是大的GDOES光谱仪，非常适合研发任务。基于模块化概念，可以设想多种选项组合，因此可以为您的应用实现配置。GDA 550 HR主要用于研究您的导电样品。GDA 7

摘要 辉光放电光谱仪是解密镀层工艺、解析镀层结构的强有力手段，可以通过元素变化获得镀层结构、层间扩散、元素富集、表面处理、镀层均一性等信息，从而改善工艺条件等

摘要 解密镀层工艺、解析镀层结构辉光放电光谱仪是解密镀层工艺、解析镀层结构的强有力手段，可以通过元素变化获得镀层结构、层间扩散、元素富集、表面处理、镀层均一性等信息，从而改善工艺条件等

摘要 脉冲射频辉光放电光谱仪—可超快速进行薄/厚膜的深度剖析在过去的15年中，HORIBAScientific不断与*的等离子体镀层研究组织进行跨领域合作，使得HORIBAScientific的辉光放电光谱仪性能得到了大幅度提升

摘要 辉光放电直读光谱仪（GD-OES）是适用于涂（镀）层厚度和表面深度组成以及元素成分的*分析技术。它在热处理，电镀，化学及物理镀层工艺中有着广泛的应用前景。

摘要 辉光放电直读光谱仪（GD-OES）是适用于涂（镀）层厚度和表面深度组成以及元素成分的*分析技术。它在热处理，电镀，化学及物理镀层工艺中有着广泛的应用前景。

摘要 SPECTRUM 高分辨率辉光放电光谱仪 GDA 650/GDA 150的成功推出， 意味着以CCD检测器为代表技术的辉光放电光谱仪进入了新的高度。

摘要 SPECTRUM 高分辨率辉光放电光谱仪 GDA 750/GDA 550，是高灵敏度、高性能的光谱仪，可适用于表面和涂镀层的化学元素含量分析。

摘要 SPECTRUM 高分辨率辉光放电光谱仪 GDA Alpha采用新研发的CCD检测器，使得辉光放电光谱仪技术迈入了一个全新的时代。