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WGL光电轮廓仪
本仪器采用非接触、光学相移干涉测量方法，测量时不损伤工件表面，能快速测得各种工件表面微观形貌的立体图形，并分析计算出测量结果。适用于测量各种量块、光学零件表面的粗糙度；标尺、度盘的刻线深度；光栅的槽形结构镀层厚度和镀层边界处的结构形貌；磁（光）盘、磁头表面结构测量；硅片表面粗糙度及其上图形结构测量等等。
WGL光电轮廓仪特点：本仪器采用非接触、光学相移干涉测量方法，测量时不损伤工件表面，能快速测得各种工件表面微观形貌的立体图形，并分析计算出测量结果。适用于测量各种量块、光学零件表面的粗糙度；标尺、度盘的刻线深度；光栅的槽形结构镀层厚度和镀层边界处的结构形貌；磁（光）盘、磁头表面结构测量；硅片表面粗糙度及其上图形结构测量等等。
由于仪器测量精度高，具有非接触和三维测量的特点，并采用计算机控制和快速分析、计算测量结果，本仪器适用于各级测试、计量研究单位工矿企业计量室，精密加工车间，也适用于高等院校和科学研究单位等。
主要技术参数 WGL光电轮廓仪
表面微观不平深度测量范围
在连续表面上，相邻二象素之间没有大于1 / 4 波长的高度突变时：1000 一1nm
相邻二象素之间含有大于1 / 4 波长的高度突变时：130 一1nm
测量的重复性：δRa ≤0.5nm
物镜倍率:40X
数值孔径:Φ 65
工作距离:0.5mm
仪器视场 目视: Φ0.25mm
摄象: 0.13×0.13mm
仪器放大倍数 目视: 500×
摄象（计算机屏幕观察）一2500×
接收器测量列阵:1000X1000
象素尺寸:5.2×5.2µm
测量时间采样（扫描）时间:1S
仪器标准镜 反射率（高）: ～50 %
反射率（低）: ～4 %
照明光源:白炽灯6V 5W
绿色干涉滤光片波长:λ≒530nm
半宽度λ≒10nm
主显微镜升程:110 mm
工作台升程:5 mm
X 、丫方向移动范围: ～10 mm
工作台旋转运动范围:360°
工作台顷斜范围：±6°
计算机系统：P4 , 2 .8G 以上，内存1G以上17寸纯平显示器
