OE750直读光谱仪全面金属分析炉料控制
一、产品特点
OE750直读光谱仪是一款新型OES金属分析仪。其涵盖了金属元素的光谱波长,并具有同类产品中较低的检出限。
日立的这款OES可用于分析合金元素,从测量钢铁中的氮到铝中的磷 ,并识别金属中含量低的杂质、痕量元素和关键元素,如钢中的氮、铜中氧 。
炉料校正:该软件会自动计算加入熔液中的合适材料量,使其符合规格。您不需依赖人工的专业知识,这大大加快了炉料校正过程。该软件还通过考虑可用的原材料和炉子容量,计算成本效益的熔液校正方法。
二、技术参数
高度/宽度/深度425 mm / 535 mm / 760 mm
重量82 kg
电源100 - 240 V AC, 50 / 60 Hz
zui大功率430 W
运行/待机45 W / (50 W 光源开启)
| 光学系统
罗兰圆采用帕邢-龙格装置
高分辨率多CMOS 优化的像素分辨率
波长范围119 - 766 nm
焦距400 mm
| 固态数字电源
计算机控制参数
频率 80 - 1000 Hz
电压250 - 500 V
高能预燃技术 (HEPS)
| 读出系统
外部PC工作站Microsoft® Windows® 用户界面
三、为什么选择OE750?
1、值得信赖的结果
在同类产品中控制杂质和痕量元素的光学分辨率高。
2、综合成本低
负担得起的购买和运行成本,提供更贵分析仪器所具备的性能。
3、保持运行不间断
设计精良,维护和标准化要求低。
4、支持连续生产
分析速度快,启动时间短,可快速反馈熔液质量。
四、我们如何提高 性价比
这*取决于技术
OE750采用*的半导体探测器和新型光学概念。这使得日立的OES光谱仪在同类产品中具有高光学分辨率,因此您不必在高性能和低成本之间作出选择。
动态CMOS检测器的创新使用以及将光学系统直接接合至火花台可确保较好照度以及119nm至766nm的波长范围。这包括从氢到铀的所有元素,用于全元素分析*。这种性能通常只适用于质量控制仪器,但OE750可通过创新、低氩和低功耗降低成本。
OE750在元素选择上具有较大的灵活性,能使操作适合未来需
要。
五、支持质量控制的软件创新
1、SPARCFIRE
| OE750的现代操作软件具有较*的用户界面,旨在满足冶金专家的要求,但足够直观,缺乏经验的用户也可操作。
2、牌号数据库
| OE750中预先安装有市面上的金属牌号数据库,可快速而轻松地鉴定牌号。日立的牌号数据库能提供70多个国家和标准中350,000多种材料的1,500多万条记录。几次点击,即可更仪器的牌号数据库,不用耗费时间研究各种规范和牌号目录。
3、炉料校正
| 该软件会自动计算加入熔液中的合适材料量,使其符合规格。您不再需要依赖人类的专业知识,这大大加快了炉料校正过程。该软件还通过考虑可用的原材料和炉子容量,计算较具成本效益的熔液校正方法。
4、统计过程控制 (SPC)
| SPC能确保轻松监控过程。如果熔体、过程或仪器超出规格,将及时发出通知。可为每个元素设置控制上限和控制下限,并查看每个元素在这些限制内的可视化表示。这意味着您可以在它们影响终规格之前发现趋势,以减少报废和返工。此外,跟踪功能使得为客户或监管审计提供信息变得更加容易。
5、EXTOPE CONNECT
| ExTOPE Connect 是一项高级数据管理和存储服务,它能够安全地
存储结果、即时共享数据以及从任何计算机实时访问数据。它包无
限免费和安全数据存储,用户可从一个集中位置管理多个站点的仪
器群。
六、降低运营成本
1、OE750的冲力远远超过其自身的重量,从而以一个可访问软件包为您提供昂贵分析仪的性能。此外,我们也降低了运行成本。具体原因如下:
2、低氩耗
OE750的氩耗比之前型号减少10%,这是因为学系统的体积减少,火花周围的气流更好。
3、低能耗
由于创新的数字火花光源和智能电源管理,此款光谱仪的能耗低于以前型号的一半。
七、型号对比
型号 FMS FME FMP2 OE750
无限制,仪器可升级 √ √ √ √
低碳钢分析(5ppm LOD) × × √ √
低合金钢和铸造熔体控制中的氮 × √ √ √
可选炉料修正计算软件 √ √ √ √
Pb, Sn 基体 × √ √ √
测量低合金钢中酸溶铝和酸不溶铝 × × √ √
通过以下取得光学洁净度 氩气净化 氩气净化 中压系统 中压系统
针对痕量和杂质元素的检测限低 * ** *** ****
Pb, Si, Sn 等的改良检出限 × × √ √
痕量元素,例如 Se, La, Te 等 × × √ √