HED型Wafer/ESD/TCP试验机阪和电子工业
本装置能够测量以往TLP无法覆盖的高电压、大电流特性，在获取、分析高耐压元件的动作参数上发挥作用。
HED型Wafer/ESD/TCP试验机阪和电子工业
HED型Wafer/ESD/TCP试验机阪和电子工业
Wafer ESD测试仪型号：HED-W5000M-WFC
在集成电路中安装的保护电路的动作参数的收集和分析中，TLP测试装置发挥了很大的作用，但是在半导体的微细化进程中，为了提高ESD抗药性，需要进一步的保护电路的开发速度。
HED-W5000M-WFC测试仪可以观测实际加入设备的ESD波形，因此在保护电路参数的收集、分析、开发速度的缩短上发挥了很大的作用。
TCP试验机
型号：HED-5000VF
装备着的测试模式。设置了施加脉冲宽度100ns/200ns的正常测试和将施加幅度缩小到1ns的VFTTLP（Very Fast TLP）的测试模式。
对ESD耐性的HBM/CDM测试的验证有效。可以通过标准装备的示波器确认设备引脚的入射波和来自设备自旋的反射波。
此数据将被保存，并在监视器中显示。用监视器可以跟踪入射波/反射波的合计值、坐标回特性、Vf/Im测量的泄露测量值等。
保存的示波器数据允许高自由度运算。例如，对于改变了工序的晶体管的ON电压和保护电路中流通的大电流值，可以通过重叠跟踪来确认差分。
此外，还可与半自动程序等连接，使TLP测试自动化。
因为可以进行Wafer上施加的销和芯片之间的自动移位、自动测量，所以测试效率大大提高。
型号：HED-5000-HC
现在，设备对于高集成、高频、高耐压的需求正在提高。
LD/LED ESD试验机
应用→测量→自动重复获取施加电压的周期数据。激光二极管的输出电平（功率）的观测由光电二极管进行。显示全部施加后的光输出特性（IL），可以看到破坏的过程。2波长的激光二极管的测量一次就可以。具有泄露（Vf/Im，Im/Vf）测量功能，同时可以进行Vf/Im，Im/Vf测量。
随着设备的精细化，LSI的电源电压有下降的倾向。伴随着这个，活动也有下降的倾向，作为试验项目被重视。
另外，几乎所有的LSI都是将I/O端子发出的噪音集中到电源和GND上的构造，因此很有可能引起电源/GND的急剧变动，因此确认其影响很重要。
以前，在ESD枪上施加脉冲的情况下，即使以正极性施加，LSI针上出现的对电源电压的噪声也会产生振动波形。
特别是在正方向和负方向的误动作的断点不同的情况下，尽管是正极性施加，但也有可能发生超过负方向的断点而导致的误动作。在HIT-5000中，通过加入矩形波，可以分别对正方向和负方向进行评价。
静电可视化监视器
HSK-5008L静电可视化监视器
手持式静电可视化监视器。
配备8个线性传感器，可轻松确认静电的带电状态。
与PC连接后，可使用软件确认静电带电状态，确认数值数据，保存测量数据。
HSK-5064静电可视化监视器
手持式静电可视化监视器。
64个传感器可以同时和高速测量100mm×100mm的宽区域。
本产品不会错过区域内的带电部分，还可以实时监控静电的带电形状和经过时间的带电动作。
与HSK-5008L相同，可使用软件进行数据保管和再生。
HSK-V5000B静电可视化监视器
安装型酒吧类型的静电可视化监视器。
安装在测量对象物的附近，可以以面为单位监视时常带电量，并且可以瞬间捕捉到大范围的带电量，是划时代的装置。（例）胶片、液晶面板、纸等
根据您的要求，可以灵活地定制测量范围、传感器的数量等。
