Apreo场发射扫描电子显微镜
复合透镜结合了静电和磁浸没技术，可产生前的高分辨率和材料
是研究纳米颗粒、催化剂、粉末和纳米器件的理想平台，而不会降低磁性样品性能。传统的高分辨率 SEM 透镜技术分为两类：磁浸没或静电。FEI 将两种技术结合到一个仪器中。这样做所产生的成效远远超过任一种镜筒的个体性能。两种技术均使电子束形成细小探针，
Apreo场发射扫描电子显微镜
拥有透镜内背散射探测器 T1，其位置紧靠样品以便尽可能多地收集信号，从而确保在很短的时间内采集数据。与其他背散射探测器不同，这种快速的探测器始终可保证良好的材料对比度，在导航时、倾斜时或工作距离很短时也不例外。在敏感样品上，探测器的价值凸现出来，即使电流低至几 pA，它也能提供清晰的背散射图像。复合末级透镜通过能量过滤实现更准确的材料对比度以及绝缘样品的无电荷成像，进一步延伸了 T1 BSE 探测器的潜在价值。它还提供了流行选项来补充其探测能力，例如定向背散射探测器(DBS)、STEM 3+ 和低真空气体分析探测器 (GAD)。所有这些探测器都拥有的软件控制分割功能，以便根据需求选择价值的样品信息。
Apreo场发射扫描电子显微镜
都按标准配备各种用以处理绝缘样品的策略，包括：高真空技术，例如 SmartSCAN™、漂移补偿帧积分(DCFI) 和电荷过滤。对于挑战性的应用，Apreo 可提供电荷缓解策略。其中包括可选的低真空（为 500 Pa）策略，通过经现场验证的穿镜式差分抽气机构和低真空探测器，不但可以缓解任何样品上的电荷，还能提供的分辨率和较大的分析电流。
随着分析技术的使用越来越常规化，Apreo 仓室经过全新设计，以便更好地支持不同的配件和实验。仓室多容纳三个 EDS/WDS 端口，可实现快速敏感的 X 射线测量、共面EDS/EBSD/TKD 排列并与（冷冻）CL、拉曼、EBIC 和其他技术兼容。
所有这些功能都能通过简单的样品处理和熟悉的 xT UI 获得，节省了新用户和专家级用户的时间。可自定义的用户界面提供了诸多用户指导、自动化和远程操作选项。
