二、用途及应用领域
用于Fe、Al、Mg、Cu、Zn、Sn、Ti、Ni、Co等多种基体的金属及金属合金中的组成元素、杂质微量元素的定量分析。
光学系统
帕型-龙格光学结构，多个高性能的CCD探测器
可实时监控的恒温光室，使光学系统稳定
| 型号 | 波长 | 范围描述 |
| M5000 F型 | 140-680nm | 双光室配置，更优的紫外分析能力，能够分析检测N元素，可满足Fe、Al、Cu、Zn、Ni、Ti、Mg、Co等各种基体分析需求 |
| M5000 N型 | 170-680nm | 双光室配置，紫外分析能力强，可满足Fe、Al、Cu、Zn、Ni、Ti、Mg、Co等各种基体分析需求 |
| M5000 S型 | 200-680nm | 单光室配置，可满足Al、Cu、Zn、Mg等常规基体分析需求 |
光源
脉冲合成全数字光源（可编程脉冲全数字光源），高频率可达1000Hz
预燃技术（HEPS）
优化设计的控制和功率电路，完善的激发保护功能
为不同分析目标提供火花、电弧或组合激发波形
频率：（100～1000）Hz
放电电流：400 A
主要性能特点
M5000可采集全谱信息，测量近万条谱线，分析范围广，可用的分析灵敏线更多，能够测定金属分析行业需要分析的元素。
与通道式光谱仪相比，M5000免除了选择通道的烦恼，以更低的成本，获取对更多元素的分析检测能力。
M5000可智能选择合适的灵敏线进行分析，科学地避开相邻元素干扰、高含量自吸等因素的影响，获取更准确的分析结果。
M5000的硬件设计支持全谱分析检测，用户可随时在任意现场增加分析基体和元素，无需更改硬件便能扩展分析范围。
M5000方便实用的扩展性能地满足企业未来拓展业务范围的需要，是企业灵活升级的得力助手。
利用全谱丰富的谱线信息，M5000可运用背景扣除、干扰扣除、漂移校正等算法，从而地监控仪器运行状态，提高了分析的准确性和仪器的稳定性。
同时智能校正技术取代了传统的描迹校正，仪器操作简单，方便易用，校正效果。
