半导体排气监测用质谱分析仪 Aston™-仪表网

公司介绍主营产品

位于中国上海浦东外高桥保税区的伯东企业（上海）有限公司创建于1995年12月，, 是日本伯东株式会社独资设立的外商投资企业，公司注册资金为200万美元，到目前为止公司从业员工有400多人。
伯东企业（上海）有限公司真空产品事业部()专业销售及维修德国Pfeiffer单双级旋片泵，干泵，罗茨泵，分子泵；应用于各种条件下的真空测量(真空计, 真空规管)；检漏仪，质谱仪，真空系统等等, 维修技术力量雄厚，保证 100 % 拥有标准的德国Pfeiffer原厂测试设备及调整工具和德国Pfeiffer专业培训工程师，多年来致力于真空系统的安装、调试、维修、拆机、保养等，具有优良的专业技能和服务意识，并获得原厂*维修资质证书。利用 Pfeiffer 进口检测设备对维修后的产品做*性能测试。另外公司还代理美国Brooks CTI Cryopump 冷凝泵/低温泵, Polycold 冷冻机和美国KRI 离子源，HVA 高真空阀门。公司一直坚持品质*、信誉*的原则，为广大客户提供了高品质的产品以及良好的售后服务。到目前为止已先后通过了美国UL安全认证、ISO9001－2000质量体系认证、ISO14001－1996环境体系认证。公司将在今后的发展中秉承以人为本，不断开拓进取的精神，为满足客户的需求努力向专业化、优质化、集团化发展。

为将国外的高科技产品与中国经济和社会的飞速发展紧密结合，为促进国内.贸易的快速发展,伯东企业(上海)有限公司,以高科技推动现代化，以高质量服务全中国, 坚持不懈,奋斗不息。伯东公司是一家专业代理公司,代理上公司的半导体设备.接插件.电子器件.精密仪器等,公司秉承改革.创新.求真.发展的基本原则, 精心构建诚信、互动、共赢的价值体系, 为所有的客户提供优质的产品, 同时,提供全伯东集团网络支持下的较早.Z快的信息与Z及时周到的服务,伯东公司愿意与世界各地的客户联手合作,共建一个诚信.发展.共同进步的良好环境.

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产地	进口	加工定制	否

上海伯东日本 Atonarp 过程控制质谱仪 Aston™ 专为半导体生产而设计, 实现工艺过程控制, 作为一个强大的平台, Aston™ 可以取代多种传统工具, 提供半导体制程中 ALD, CVD, 蚀刻, ALE 和腔室在大批量生产中的气体侦测分析, 实现尾气在线监控, 诊断并在一系列应用中提供的控制水平, 适用于光刻, 电介质和导电蚀刻及沉积, 腔室清洁, 腔室匹配和消解.

半导体排气监测用质谱分析仪 Aston™ 产品详情

价格货期电议

海伯东代理日本 Atonarp 推出半导体排气监测用质谱分析仪 Aston™
上海伯东日本 Atonarp 过程控制质谱仪 Aston™ 专为半导体生产而设计, 实现工艺过程控制, 作为一个强大的平台, Aston™ 可以取代多种传统工具, 提供半导体制程中 ALD, CVD, 蚀刻, ALE 和腔室在大批量生产中的气体侦测分析, 实现尾气在线监控, 诊断并在一系列应用中提供控制水平, 适用于光刻, 电介质和导电蚀刻及沉积, 腔室清洁, 腔室匹配和消解.
半导体过程控制在线质谱仪 Aston™

Aston™ 质谱分析仪耐受腐蚀性气体和气化污染物冷凝液, 能够在半导体生产遇到的恶劣工况下可靠运行, 与传统质量分析仪相比, 使用 Aston™ 的维修间隔更长. 它包括自清洁功能, 可消除由于某些工艺中存在的冷凝物沉积而导致的污垢积累.

Aston™ 特性
实时过程控制的通用工具, 耐腐蚀性气体, 抗冷凝
半导体制造的分子分析原位平台, 提供实时, 可操作的数据
采用等离子体电离源, 无灯丝, 更耐用
可与大批量生产工具*集成

Atonarp Aston™ 技术参数

类型	Impact-300	Impact-300DP	Plasma-200	Plasma-200DP	Plasma-300	Plasma-300DP
型号	AST3007	AST3006	AST3005	AST3004	AST3003	AST3002
质量分离	四级杆
真空系统	分子泵	分子泵隔膜泵	分子泵	分子泵隔膜泵	分子泵	分子泵隔膜泵
检测器	FC /SEM
质量范围	2-285		2-220		2-285
分辨率	0.8±0.2
检测限	0.1 PPM
工作温度	15-35“℃
功率	350 W
重量	15 kg
尺寸	299 x 218 x 331 LxWxH(mm)		400 x 240 x 325 LxWxH(mm)

Aston™ 质谱分析仪 CVD 典型应用: Dry pump 干泵排气在线监测,诊断
在恶劣的 CVD 环境中, Aston™ 利用可操作的数据预测和预防因 PV-CVD 干泵引起的灾难性故障, 能够对破坏性腐蚀或沉积进行预测建模, 优化氮气吹扫成本.
适用场景: 多个腔室连接到1个干泵, 高浓度的电介质会导致灾难性的泵故障 (一次损失 10-100 片的晶圆)

Aston CVD 典型应用: Dry pump 干泵排气在线监测,诊断

通过使用上海伯东 Atonarp 过程控制质谱仪 Aston™ 可以提高半导体制造工艺的产量, 吞吐量和效率, 此款质谱仪可以在新工艺腔室的组装过程中进行安装, 也可将其加装到已运行的现有腔室, 可在短时间内实现晶圆更高产量!

若您需要进一步的了解 Atonarp Aston™ 在线质谱分析仪详细信息或讨论, 请联络上海伯东叶女士

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半导体排气监测用质谱分析仪 Aston™
半导体排气监测用质谱分析仪 Aston™

关键词：过程控制质谱仪质量分析仪在线质谱

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