应用范围：
该设备采用 e 型电子枪蒸发源，可蒸发各种高熔点金属和氧化物，可在玻璃，塑料,陶瓷基体上镀制各种多层薄,如:红外膜、宽带增透膜、分光膜、冷光膜、IR-CUT膜、干截止滤光片、偏振膜、电学膜，适用于眼镜、光学镜头、精密光学元件、激光和电子行业的大规模工业生产.
主要特点：
l 电子枪输出功率稳定，特殊结构设计有效杜绝二次电子的产生和电子枪打火。
l 转动采用磁流体引入,长期运转密封可靠。
l 工件转动座多重水冷和重力导向设计，运转平稳可靠，径向和轴向跳动3-5mm。
l 采用PLC+触摸屏控制, 多重泵阀水电互锁互保护，可全程自动控制,包括真空系统,烘烤系统,整个蒸发镀膜过程。
l 安装采用全程四极质谱监控和氦质谱检漏, 真空密封性好, 设备工艺稳定可靠。
l 所有零部件采用国内厂家, 电器元件采用进口或合资企业产品, 设备24小时连续长期运行可靠稳定。
基本参数：
1. 立式前开门结构，不锈钢真空室Φ1300X1500mm
2. 极限真空：1×10-4Pa（空载清洁真空系统，300°烘烤后）。
3. 恢复真空时间：大气至4×10-3Pa≤15min。
4. 大抽速主泵，KT-630型扩散泵（18000L/s）两台，配备防湍流装置。
5. 工件转动：采用磁流体密封转动装置，转动座多重水冷和重力导向设计，运转平稳可靠。
6. 工件烘烤：桶状上烘烤,三点控温,烘烤温度350°。
7. 永磁E型电子枪，枪功率10KW/支；可配置单枪或双枪，多穴坩埚和环形坩埚。
8. 配备美国Inficon公司生产的SQC310C 或IC6型石英晶体膜厚控制仪。
9. 10英寸触摸屏和欧姆龙（PLC）编程控制器，对设备真空系统、蒸发源系统、烘烤系统、工件转动系统、膜厚监控系统等进行监测和控制，可采用自动和手动两种模式。
10. 可选配Φ16CM的离子源或深冷低温冷阱。
