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溅射阴极

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  • 更新时间2022-04-25
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深圳市利方达科技有限公司由留德博士钱锋创建于2002年。公司目前集中了一批多年从事真空和真空镀膜专业的技术人员和经验丰富的市场销售人员,现已经发展成为由利方达(香港)有限公司,深圳市利方达科技有限公司,深圳市天星达真空镀膜设备有限公司,集真空产品研发,生产及贸易以及维修服务为一体的企业集团 。
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根据使用需求,选型定做 为你提供更适合更的阴极及靶材...
溅射阴极 产品详情
美国Angstrom Sciences公司 溅射阴极及靶材

 美国安斯超科学公司(Angstrom Sciences,Inc)成立于1988年,,是一家

专业从事物理气相沉积磁控溅射阴极及溅射靶材的高科技专业公司,专

的磁场设计和*的水冷技术使其产品倍受欢迎。安斯超公司对磁控溅

靶阴极的磁体外形和冷却循环结构进行了科学合理地优化设计,并且选取

更强的磁体(比稀土磁体强30%),从而使安斯超的靶阴极比常规的靶阴

有更为的性能。



核心技术及特点

特殊设计的磁体结构,使得磁场线跨度范围更宽,从而提高靶材的利用率和膜层的均匀性

湍流冷却技术,使得水流能够更平缓的进入阴极,从而提高冷却效果

特殊设计的耙材固定结构,使得耙材更换起来更简单,降低停工期

的磁体材料 NdFeB,他的强度比其他的稀土磁体要强30%

*的靶材利用率,可以达到50%,从而降低靶材成本

的产品均匀性,可以达到±3% 

可以在更低的真空以及更高的功率下运行:压力可以达到10-4TOR

直接水冷结构可以提高其功率密度达到250Watt s/in2

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