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仪表网>产品库>测量/计量>其它测量>其他测量>高品质大面积激光镜面镀膜系统(直径350mm晶圆)
  • 高品质大面积激光镜面镀膜系统(直径350mm晶圆)

高品质大面积激光镜面镀膜系统(直径350mm晶圆)

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具体成交价以合同协议为准
  • 型号
  • 品牌
  • 所在地上海
  • 更新时间2022-06-02
  • 厂商性质代理商
  • 入驻年限1
  • 实名认证已认证
  • 产品数量99
  • 人气值775
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上海续波光电技术有限公司是一家专业从事高性能薄膜沉积及处理设备、光电材料、光学软件等产品进口的技术贸易服务型公司,公司至今已与欧美、日本等国家的十余家企业建立了战略合作关系;目前服务于国内从事微电子、半导体、光学、纳米技术等领域的研究所和大学。主要产品包括:溅射、蒸发镀膜仪、离子减薄仪、刻蚀机、等离子处理设备、CVD金刚石沉积设备、激光辅助化学束沉积设备,红外窗口材料、各种功能CVD金刚石产品,光学设计、激光仿真、BSDF/BRDF测量仪、电磁场模拟仿真及测量仪器等模拟设计软件等。

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高品质大面积光学薄膜沉积系统1.主腔体:圆柱形304不锈钢、长方形前门、2个观察窗口、大约1000L2.真空系统:螺旋泵80m3/h+低温泵10,000l/s(N2)3.离子源:RF耦合(2MHz),filament-free离子源用于惰性气体和氧气束径100mm
高品质大面积激光镜面镀膜系统(直径350mm晶圆) 产品详情

高品质大面积光学薄膜沉积系统

 

1.       主腔体:圆柱形304不锈钢、长方形前门、2个观察窗口、大约1000L

 

2.       真空系统:螺旋泵80m3/h+低温泵10,000 l/s (N2)

 

3.       离子源:RF耦合(2MHz), filament-free离子源用于惰性气体和氧气

                         束径100mm, 电流>200mA,电子能量1-2 KeV

                        工艺气体:4个流量控制机,用于氧气、稀有气体

                        Ar等离子体,电子束流500mA

      3a.     离子源升级:代替标准离子源(3)

                                RF耦合(2MHz), filament-free离子源用于惰性气体和氧气

                                束径150mm,电流大于500mA,电子能量大于1 KeV

                                工艺气体:4个流量控制器,用于氧气、稀有气体等

                                Ar等离子体,电子束流900mA

      3b.     辅助离子源:RF耦合(2MHz), filament-free离子源用于Ar和氧气

                                      工艺气体:2个流量控制器,氧气和稀有气体

                                束径100mm,离子能量200-1000 eV,束流0-200mA

 

4.                 400m×200mm (标准3);400mm×250mm(选项3a)

                              标准材料:Ta>99.998%,Si>99.999%

      4a.      可选靶  200mm×200mm 或200mm×250mm     

                              材料:Nb>99.95%, HfO2>99.99%, Al>99.999%, Ti>99.99%

                              更高纯度或其他材料可以提要求

 

      5   样品台        平面、真空兼容Al样品台

                              Bottom-up coating 法

                              沉积区域直径200mm(标准3)、沉积区域直径350mm(选项3a)

                              旋转速度0-120rpm

      5a.         Load Lock可选  

                    直径400mm,加载重量5kg

                    螺旋泵+分子泵抽高真空

                    手动加载,自动送样

      5b.        衬底加热可选    

                   石英加热器,最小功率1.6KW,衬底温度280℃

                   采用热电偶控温

 

       6.    OMS               波长范围380-1050nm

                                     波长分辨率2nm

                                     测量误差补偿<0.2%

                                     测量误差噪音<1%峰值(@650nm)

                                     全自动控制

                                     积分时间:2ms

 

       6a.    DUV可选          DUV延长宽波段OMS

                                        波长范围230-380nm

                                        波长分辨率2nm

                                        测量误差补偿<2%

                                        测量误差噪音<1%峰值(@350nm)

                                        积分时间:10ms

 

        6b.     IR可选           波长范围900-1700nm

                                        波长分辨率5nm

                                        测量误差补偿<2%

                                        测量噪音<1%峰值(@1200nm)

                                        积分时间:12ms

 

        7     系统性能表现:

                       真空度    基准真空度<3×10-7mbar

                                      工作气压<1×10-3mbar

                       标准靶     沉积速率0.15nm/s (Ta2O5, SiO2) @200mm直径 (标准3)

                                       沉积速率0.15nm/s (Ta2O5, SiO2) @350mm直径(3a选项)

                       薄膜均匀性         优于±1%@<直径200mm(标准3)

                                                   优于±1%@<直径350mm(选项3a)

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