概述
Edwards 半导体真空泵已经过现场应用证明，可以按照高工作标准运行。通过延长使用寿命、提高运行时间并提高生产率，同时大程度地减小占地面积、降低运行成本，实现了高的性和性能。
iH 系列为难以执行的制程（如存在微粒、易冷凝和腐蚀性副产品的 PECVD 和 LPCVD 制程）提供了高性。
iH 系列为难以执行的制程（如存在微粒、易冷凝和腐蚀性副产品的 PECVD 和 LPCVD 制程）提供了高性。
应用
- 负载锁
- 输送
- 计量
- 平版印刷
- PVD 制程
- PVD 预清洁
- RTA
- 剥离/灰化
- 刻蚀
- 植入源
- HDP CVD
- RTP
- SACVD
- MCVD
- PECVD
- LPCVD
- ALD
有关任何特定应用条件下 iH 系统稳定性的建议，请与 Edwards 联系。
数据
| 峰值速度 | 1000 m3h-1 |
| 589 cfm | |
| 16670 l min-1 | |
| 极限真空 | 1 x 10-3 mbar |
| 7.5 x 10-4 Torr | |
| 0.1 Pa | |
| 典型轴封氮流量 | 4 slm |
| 进气口连接 | ISO100 |
| 连接 | NW40 |
| 15 psi 压降下典型冷却水流量 | 240 l h-1 |
| 4 l min-1 | |
| 重量 | 430 kg |
| 极限功率输入 | 3.8 kW |
| 电机额定功率 | 6.1 kW |
| 油容量 | 1.48 l |
数字均为无气镇时的典型值。
