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  • EVG101_匀胶机_光刻胶涂胶机

EVG101_匀胶机_光刻胶涂胶机

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面议
具体成交价以合同协议为准
  • 型号
  • 品牌
  • 所在地上海
  • 更新时间2022-08-17
  • 厂商性质其他
  • 入驻年限1
  • 实名认证已认证
  • 产品数量80
  • 人气值338
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EVG101_匀胶机_光刻胶涂胶机基本功能:研发和小规模生产中的单晶圆光刻胶加工,含旋涂和喷涂等工艺
EVG101_匀胶机_光刻胶涂胶机 产品详情

  EVG101_匀胶机_光刻胶涂胶机基本功能:研发和小规模生产中的单晶圆光刻胶加工,含旋涂和喷涂等工艺。

一、 简介

  EVG101_匀胶机_光刻胶涂胶机在单室设计上可以满足研发工作,与EVG的自动化系统*兼容。EVG101支持zui大300 mm的晶圆,可配置为旋涂或喷涂和显影。使用EVG*的OmniSpray涂层技术,在3D结构晶圆上实现光刻胶或聚合物的共形层,用于互连技术。这确保了高粘度光致光刻胶或聚合物的低材料消耗,同时改善了均匀性并防止了扩散。

二、EVG101匀胶机技术参数:

  1)晶圆尺寸:高达300mm(12寸)

  2)支持模式:旋涂/ OmniSpray®/生长

  3)晶圆支撑模式:单臂/双EE/边缘/翻动

  4)分配模式:

  - 各种分配泵,可覆盖高达52000cP的各种粘度

  - 恒压分配系统

  - EBR / BSR /预湿/碗洗/液体灌注

EVG101_匀胶机_光刻胶涂胶机喷涂结果

图1 喷涂结果

三、EVG101匀胶机特征:

  1)晶圆尺寸可达300 mm

  2)自动旋涂或喷涂或使用手动晶圆装载/卸载进行显影

  3)利用从研究到生产的快速简便的过程转换

  4)成熟的模块化设计和标准化软件

  5)注射器分配系统,用于利用小的光刻胶体积,包括高粘度光刻胶

  6)占地面积小,同时保持高水平的个人和过程安全性

  7)多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)

  8)选项:

  - 采用OmniSpray®涂层技术均匀涂覆晶圆的高表面形貌

  - 用于后续键合工艺的蜡和环氧树脂涂层

  - 旋涂玻璃(SOG)涂层

EVG101_匀胶机_光刻胶涂胶机喷涂结构

图2 喷涂形成的金属结构


关键词:标准
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