● 视场宽阔，可得清晰无闪烁正像 ● 高精度测量，同时具有大测量范围和高精度，适用于各种测量 ● 可选用高NA物镜，满足长工作距离的测量要求 ● 照明装置（反射/透射）可选用高亮度LED的照明或卤素照明 ● 利用可变孔径光阑进行无衍射观察测量 ● 各类尺寸的标准工作台 ● 快速释放装置便于测量工件大或测量工件数量多的快速移动工作台 ● 高位目镜观察 ● 便捷CCD图像成像，可选配多种CCD数码相机
偏光观察 微分干涉对比观察
观察过滤后只有一个方向振动的光。适于观察具有 在检测金属、液晶和半导体表面的微小划痕和阶差时很有效。
特殊光学特性的材料，如矿石和液晶。
暗视场观察 亮视场观察
挡住直射到物体上的光，只观察散射光，通过高对比度能 最普通的观察方式，直接观察从工件表面反射的光。
观察到在亮视场看不到的划痕和粉末。
新功能增强Z轴测量精度
● 辅助对焦（FA）
新近研发的分光棱镜辅助对焦（FA）提供更锐利的图案，可在Z轴测量期间提供精确对焦。由于不同物镜焦深差异导致的测量误差被降到。
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对焦 | 前端对焦 | 后端对焦 |
规格
● 无限远系统，管镜200mm
● 倾斜角度30°，瞳孔距离55-75mm，正像
● 高眼点，大视场WF10/22
● 鼻轮螺纹M26X0.706
● Z轴的长度180mm，微动精度0.002mm，测量精度（at20℃），XY-轴的（2.5 0.02L）um，L=测量长度（mm）在没有放物体分辨率为0.001mm
● 12V50W反射卤素灯
● 3W高亮度LED光源
● 可配置辅助调焦装置（FA）
技术参数
型号 | VMM-8Ⅰ型 | VMM-8Ⅱ型 | VMM-8 Ⅲ型 | VMM-8 Ⅳ型 | VMM-12Ⅰ型 | VMM-12Ⅱ型 | VMM-12Ⅲ型 | VMM-12 Ⅳ型 | ||
镜筒 | 1×光学管径，双目目镜，带有CCD1/2靶面接口 | |||||||||
观察图像 | 正像 | |||||||||
观测方法 | 辅助对焦系统 | - | - | 头部或照明器FA系统 | 头部或照明器FA系统 | - | - | 头部或照明器FA系统 | 头部或照明器FA系统 | |
微分干涉对比 | 可选微分观测对比 | |||||||||
目镜 | 10X(视场直径：25mm)，可选十字分划板，可选：视场直径：22mm | |||||||||
物镜(100x选配) | 95mm 2x, | 60mm 5x, | 95mm 2x, | 60mm 5x, | 95mm 2x, | 60mm 5x, | 95mm 2x, | 60mm 5x, | ||
照明装置 | 反射照明 | 内置孔径光阑，LED光源，无极亮度调节，可选卤素照明 | ||||||||
透射照明 | 白色LED照明，无极亮度调节 | |||||||||
工作台 | XY测量范围 | 200*100 | 200*100 | 200*100 | 200*100 | 300*200 | 300*200 | 300*200 | 300*200 | |
快速释放装置 | X轴和Y轴（标配） | |||||||||
调零开关 | X轴和Y轴（标配） | |||||||||
数显计器 | 显示轴 | 2轴或3轴 | ||||||||
分辩率 | 0.0005mm（可选0.00002mm） | |||||||||
具体配置和规格请，
